[发明专利]一种镧锰氧/铱酸锶异质结薄膜制备方法

权利要求书

1.一种镧锰氧/铱酸锶异质结薄膜制备方法，其特征在于包括以下步骤：

步骤1，对钛酸锶基片进行预处理，将镧锰氧和铱酸锶靶材放入真空腔室中备用；

步骤2，将处理好的钛酸锶基片放入真空腔室内，通入保护混合气体，同时对基片进行加热至一定温度；

步骤3，使用脉冲激光照射铱酸锶靶材上产生等离子体羽辉，在钛酸锶基片上进行铱酸锶薄膜的沉积，沉积过程中通过反射式高能电子衍射仪监控沉积的厚度；

步骤4，保持真空腔室内环境不变，对步骤3所得基片进行原位退火；

步骤5，使用脉冲激光照射镧锰氧靶材，使用如步骤3、4同样方式沉积镧锰氧薄膜以及原位退火，待薄膜自然冷却至室温后，停止通入保护气体，从真空腔室内取出基片完成制备。

2.如权利要求1所述的一种镧锰氧/铱酸锶异质结薄膜制备方法，其特征在于，所述步骤1中对钛酸锶基片预处理方法为：首先在室温下将钛酸锶基片分别在丙酮、无水乙醇中超声清洗，然后在高温下将钛酸锶基片分别在去离子水、王水中超声清洗，最后将处理后的基片在氧气氛围中退火。

3.如权利要求1所述的一种镧锰氧/铱酸锶异质结薄膜制备方法，其特征在于，所述步骤2中的保护混合气体为氧气和臭氧的混合气体。

4.如权利要求1所述的一种镧锰氧/铱酸锶异质结薄膜制备方法，其特征在于，所述步骤3、5中激光源为KrF准分子激光器。