[发明专利]一种过渡金属硫系化合物及其制备方法、用途及储能器件在审

专利信息
申请号: 202210404234.7 申请日: 2022-04-18
公开(公告)号: CN114920292A 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 杨树斌;杜志国 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C01G31/00 分类号: C01G31/00;H01M4/58;H01M10/0525;H01M10/054
代理公司: 北京谱帆知识产权代理有限公司 11944 代理人: 张慧娟;王芊雨
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 过渡 金属 化合物 及其 制备 方法 用途 器件
【说明书】:

发明公开了一种过渡金属硫系化合物及其制备方法、用途及储能器件,其中,该过渡金属硫系化合物的化学式表示为MaY2a‑2;步骤包括:将原料在一定温度下与硫系氢化物反应得到;所述原料选自于MAX相材料、MXene材料或过渡金属硫系化合物MY2中的至少一种;其中,所述M代表过渡金属元素;所述Y代表硫、硒或碲元素中的一种,3≤a≤5。本发明为2D非范德华过渡金属硫化物的制备提供一种新的技术路径,并获得了一类新型结构的过渡金属硫系化合物材料,其具有二维超薄特征、高度暴露的表面、高导电性和独特的空位结构,基于该些结构特征,本发明还提供了将其作为离子存储的用途,可以作为电池或超级电容器的电极材料。

技术领域

本发明是属于新材料和电池领域,特别是关于一种过渡金属硫系化合物及其制备方法、用途及储能器件。

背景技术

石墨烯、六方氮化硼(h-BN)和过渡金属硫系化合物(TMC)等二维纳米晶体因其具有极高的各向异性而引起广泛关注。特别是,2D TMC具有多种化学功能,由过渡金属(M=V、Nb、Ta、Mo、W等)和硫族元素(X=S、Se、Te)组成,显示出从半导体到半金属和金属的可调电特性,在电子、光电子、能量储存和转换领域具有巨大的前景。目前,研究最广泛的2D TMC纳米晶体通常是范德华(vdW)层,如MoS2和WS2,可以通过机械、液相和电化学剥离分层对应物,基于自上而下的方法轻松制备。在剥离过程中,层间范德华力较弱的块状层状 TMC化合物可通过外力作用(如粘附力、剪切力和超声波作用)被切割,从而形成单层和少量2D TMC纳米晶体。与范德华TMC层相比,2D非范德华TMC 更难制备,因为这些化合物存在于三维键合网络中,而不存在层间范德华力,使得它们难以通过常见的剥离方法进行切割,并极大地阻碍了它们的进一步发展和广泛应用。

非范德华TMC可以存在于各种晶体结构中,例如立方黄铁矿和NiAs型结构,这些结构由金属原子组成,周围有六个八面体构型的硫原子。这些独特的结构特征具有各向异性的面内和面外键合,与特定过渡金属的可调谐d轨道电子相关,使得非范德华TMC纳米晶体具有良好的电性能。例如,非范德华钒硫化物,如V5S8,由VS2层组成,在VS6八面体配位中嵌入V原子,分别为嵌入的V原子和其他V原子具有局域和流动的3d电子,从而使其具有约500Scm-1的高导电性的金属性质。更引人注目的是,通过将大量非范德华TMC隔离到2D极限,充分暴露的金属、丰富的悬挂键和不饱和配位正在出现,这一特点在2D范德华 TMC中不存在,2D非范德华TMC可以提供许多电化学活性位点。不幸的是,迄今为止,由于二维非范德华TMC纳米晶体的三维键合结构,其制备仍然是一个巨大的挑战。

发明内容

本发明针对2D非范德华过渡金属硫系化合物难以制备得到的技术难题,本发明第一方面,提供一种过渡金属硫系化合物的制备方法,该过渡金属硫系化合物的化学式表示为MaY2a-2;步骤包括:将原料在一定温度下与硫系氢化物反应得到;该原料选自于MAX相材料、MXene材料或过渡金属硫系化合物MY2中的至少一种;其中,化学式中的M代表过渡金属元素;Y代表硫、硒或碲元素中的一种,3≤a≤5。

在一些实施例中,上述原料中的MAX相材料的化学式表示为M2AX,其中, M代表过渡金属元素,A代表铝、镓、铟、铅、硅、锗、锡元素中的至少一种, X代表碳和/或氮元素。

在一些实施例中,上述原料中的MXene材料的化学式表示为M2XTx,其中, M代表过渡金属元素,X代表碳和/或氮元素,Tx代表官能团。

在一些实施例中,上述过渡金属硫系化合物的化学式为M3Y4或M5Y8

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