[发明专利]集成电路的设计方法、设计设备及计算机可读存储介质

说明书

本公开实施例提供了一种集成电路的设计方法、设计设备及计算机可读存储介质，所述设计方法包括：绘制第一单元版图；在所述第一单元版图上添加识别图案层，所述识别图案层包括至少一个识别图案，所述识别图案具有初始放置方向，所述第一单元版图和所述识别图案层构成第二单元版图；其中，所述识别图案为非轴对称或旋转对称的图形；提供集成电路版图，并在所述集成电路版图上添加所述第二单元版图；判断添加至所述集成电路版图中的所述识别图案的放置方向与所述初始放置方向是否相同。

技术领域

本公开涉及集成电路设计领域，尤其涉及一种集成电路的设计方法、设计设备及计算机可读存储介质。

背景技术

在制造集成电路之前，通常还包括根据集成电路的电路图绘制集成电路版图、根据所述集成电路版图制作相应的掩模版等步骤，其中，所述集成电路版图是由多个单元版图组合而成。

然而，在集成电路版图的实际绘制过程中，有些单元版图的放置方向难以被识别，从而导致所述单元版图的放置方向出错，制作出错误的掩模版，最终导致后续的流片工艺出错。

发明内容

本公开实施例提供一种集成电路的设计方法，包括：

绘制第一单元版图；

在所述第一单元版图上添加识别图案层，所述识别图案层包括至少一个识别图案，所述识别图案具有初始放置方向，所述第一单元版图和所述识别图案层构成第二单元版图；其中，所述识别图案为非轴对称或旋转对称的图形；

提供集成电路版图，并在所述集成电路版图上添加所述第二单元版图；

判断添加至所述集成电路版图中的所述识别图案的放置方向与所述初始放置方向是否相同。

在一些实施例中，所述识别图案包括由多条边连接而成的封闭的二维图形；所述封闭的二维图形在第一方向视图中的边数为n1，在第二方向视图中的边数为n2，在第三方向视图中的边数为n3，在第四方向视图中的边数为n4，其中，n1、n2、n3、n4中至少有三个参数不相同，其中，所述第一方向、所述第二方向、所述第三方向及所述第四方向均与所述集成电路版图平行。

在一些实施例中，所述第一方向与所述第二方向相反，所述第三方向与所述第四方向相反，且所述第一方向、所述第二方向与所述第三方向、所述第四方向垂直。

在一些实施例中，所述识别图案包括F。

在一些实施例中，所述第一单元版图包括电容版图，所述电容版图包括多个层次，所述多个层次包括从下往上堆叠的下电极层、电容介质层、上电极填充层和上电极板。

在一些实施例中，在所述第一单元版图上添加识别图案层，包括：在所述多个层次中的任一层次的上方或下方添加所述识别图案层。

在一些实施例中，在所述第一单元版图上添加识别图案层，包括：所述识别图案层由多个层次上的图案集合构成。

在一些实施例中，判断添加至所述集成电路版图中的所述识别图案的放置方向与所述初始放置方向是否相同，包括：

对添加有所述第二单元版图的集成电路版图执行设计规则检查(DRC)，以判断添加至所述集成电路版图中的所述识别图案的放置方向与所述初始放置方向是否相同。

在一些实施例中，判断添加至所述集成电路版图中的所述识别图案的放置方向与所述初始放置方向是否相同，包括：

判断添加至所述集成电路版图中的所述识别图案在第一方向、第二方向、第三方向及第四方向上的视图的边的数量是否分别与具有所述初始放置方向的所述识别图案在第一方向、第二方向、第三方向及第四方向上的视图的边的数量相同。

在一些实施例中，在判断添加至所述集成电路版图中的所述识别图案的放置方向与所述初始放置方向是否相同之后，所述方法还包括：