[发明专利]一种自清洁防护功能面料的制备方法

权利要求书

1.一种自清洁防护功能面料的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)利用常压等离子体辐照聚二甲基硅氧烷，对聚二甲基硅氧烷进行亲水改性。

(2)将纳米银粉加入到步骤(1)得到的改性聚二甲基硅氧烷中，超声混合均匀，得到纳米银和聚二甲基硅氧烷的复配体系。

(3)利用常压等离子体刻蚀织物，使得织物分子链的一些共价键断裂。

(4)将步骤(3)得到的织物浸渍于步骤(2)得到的纳米银和聚二甲基硅氧烷的复配体系中，轧车轧压后烘干织物。

(5)利用常压等离子体处理步骤(4)得到的织物，使得聚二甲基硅氧烷在织物表面交联成膜，将纳米银包覆在膜内。

2.如权利要求1所述的自清洁防护功能面料的制备方法，其特征在于，在步骤(1)所述常压等离子体辐照，辐照功率为60-100w，辐照时间为50-90s，辐照距离为1-3mm。

3.如权利要求1所述的自清洁防护功能面料的制备方法，其特征在于，在步骤(2)所述纳米银粉粒径为10-30nm，所述超声为5-15min。

4.如权利要求1所述的自清洁防护功能面料的制备方法，其特征在于，在步骤(3)所述织物为涤纶织物、棉织物或涤棉混纺织物，所述常压等离子体刻蚀，刻蚀功率为300-400w，刻蚀时间为0.3-0.5s,刻蚀距离1-3mm。

5.如权利要求1所述的自清洁防护功能面料的制备方法，其特征在于，在步骤(4)所述浸渍，浴比为1:50-1:100，时间为5-10min，所述轧压，轧液率为25％-35％，所述烘干为50℃-80℃下烘10-30min。

6.如权利要求1所述的自清洁防护功能面料的制备方法，其特征在于，在步骤(5)所述常压等离子体处理，处理功率为200-400w，处理时间为0.2-0.6s，处理距离为1-3mm。

7.如权利要求1-6任一项所述的自清洁防护功能面料的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)利用常压等离子体辐照聚二甲基硅氧烷，辐照功率为60-100w，辐照时间为50-90s，辐照距离为1-3mm，对聚二甲基硅氧烷进行亲水改性。

(2)将粒径为10-30nm的纳米银粉加入到步骤(1)得到的改性聚二甲基硅氧烷中，超声5-15min，混合均匀，得到纳米银和聚二甲基硅氧烷的复配体系。

(3)利用常压等离子体刻蚀涤纶织物、棉织物或涤棉混纺织物，刻蚀功率为300-400w，刻蚀时间为0.3-0.5s,刻蚀距离1-3mm，使得织物分子链的一些共价键断裂。

(4)将步骤(3)得到的织物浸渍于步骤(2)得到的纳米银和聚二甲基硅氧烷的复配体系中，浴比为1:50-1:100，时间为5-10min，轧车轧压，控制轧液率为25％-35％，50℃-80℃下烘干织物10-30min。

(5)利用常压等离子体处理步骤(4)得到的织物，处理功率为200-400w，处理时间为0.2-0.6s，处理距离为1-3mm，使得聚二甲基硅氧烷在织物表面交联成膜，将纳米银包覆在膜内。