[发明专利]制造钟表部件的方法

权利要求书

1.一种制造包括要进行处理的表面的钟表部件的方法，所述表面可选地通过抛光的子步骤和/或通过添加延展性的上层(2)的子步骤预先进行准备，其中所述方法包括以下步骤：

-对所述钟表部件的要进行处理的所述表面进行第一表面结构化(E10)，然后

-对通过先前的第一表面结构化步骤(E10)进行了结构化的要进行处理的所述表面进行第二表面结构化(E20)。

2.根据权利要求1所述的制造钟表部件的方法，其中，要进行处理的所述表面属于延展性材料的上层，第一表面结构化步骤(E10)和第二表面结构化步骤(E20)在所述上层的所述延展性材料中完全或部分地执行，和/或其中要进行处理的所述表面属于所述钟表部件的不透明的上层，第一表面结构化步骤(E10)和第二表面结构化步骤(E20)对所述上层的不透明度不具有影响或具有可忽略不计的影响。

3.根据权利要求1或2所述的制造钟表部件的方法，其中，第一表面结构化步骤(E10)和/或第二表面结构化步骤(E20)形成了浮雕，所述浮雕的平均深度小于或等于0.1μm，或者甚至小于或等于0.3μm，或者甚至小于或等于0.8μm，或者甚至小于或等于1μm，或者甚至小于或等于1.5μm，或者甚至小于或等于3μm，或者甚至小于或等于4μm，和/或所述浮雕的深度小于形成有表面结构化的延展性层的厚度。

4.根据前述任一项权利要求所述的制造钟表部件的方法，其中，第一表面结构化步骤(E10)和/或第二表面结构化步骤(E20)形成了平均深度大于或等于0.05μm的浮雕。

5.根据前述任一项权利要求所述的制造钟表部件的方法，其中，第二表面结构化步骤(E20)形成的浮雕的平均深度小于或等于第一表面结构化形成的浮雕的平均深度，或者其中第二表面结构化步骤(E20)在要进行处理的表面上形成的表面粗糙度小于或等于第一表面结构化形成的表面粗糙度，和/或其中第二表面结构化步骤(E20)完全或部分地去除第一表面结构化形成的纹理的顶部，和/或其中第二表面结构化步骤(E20)在不改变第一表面结构化步骤(E10)形成的纹理的轮廓的情况下使其降低。

6.根据前述任一项权利要求所述的制造钟表部件的方法，其中，第二表面结构化步骤(E20)仅应用于通过第一表面结构化步骤(E10)处理的表面的一部分。

7.根据前述任一项权利要求所述的制造钟表部件的方法，其中，所述方法包括至少一个额外的第三表面结构化步骤，其应用于要进行处理的表面的仅经历了第一表面结构化的部分和/或要进行处理的表面的经历了第一表面结构化和第二表面结构化的部分。

8.根据前述任一项权利要求所述的制造钟表部件的方法，其中，所述方法接下来包括通过沉积一层材料、尤其是使用CVD、PVD、PLD或ALD或电流生长而对整个要进行处理的表面进行着色的着色步骤(E30)。

9.根据权利要求8所述的制造钟表部件的方法，其中，着色步骤(E30)与至少两个表面结构化步骤(E10；E20)结合在要进行处理的表面的至少两个相应的不同区域处产生不同的颜色和/或不同的明度和/或不同的光学效果。

10.根据前述任一项权利要求所述的制造钟表部件的方法，其中，第一表面结构化步骤(E10)包括缎面处理、刷光、蜗形纹处理、太阳纹处理、日内瓦波形纹处理、点刻、圆形粒纹处理、湿喷砂、喷砂或者尤其是使用纳秒激光器或飞秒激光器进行的激光结构化，和/或其中第二表面结构化步骤(E20)包括湿喷砂或喷砂或者尤其是使用纳秒激光器或飞秒激光器进行的激光结构化。

11.根据前述任一项权利要求所述的制造钟表部件的方法，其中，所述方法包括获得基板的前置步骤并且随后向要进行处理的所述表面添加延展性层来帮助进行所述表面结构化步骤，所述延展性层的厚度小于或等于10μm，或者甚至小于或等于6μm，或者甚至小于或等于4μm，或者甚至小于或等于3μm。