[发明专利]一种瓷砖开片釉及制备瓷砖的方法

权利要求书

1.一种瓷砖开片釉，其特征在于：按照质量百分比计算，所述开片釉的原料组分及含量如下：

霞长石：55％-75％；

钠长石：0％-20％；

钾长石：0％-15％；

高岭土：0％-5％；

石英：10％-15％；

碳酸钡：0％-3％；

硅灰石：0％-3％。

2.如权利要求1所述的开片釉，其特征在于：所述霞长石、钠长石和钾长石的总含量小于等于80％。

3.如权利要求1所述的开片釉，其特征在于：所述高岭土的含量为3％-5％。

4.如权利要求1所述的开片釉，其特征在于：所述碳酸钡的含量为1％-3％，所述硅灰石的含量为1％-3％。

5.一种基于权利要求1-4任意一项所述开片釉制备瓷砖的方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：

①通过湿式球磨的方式对开片釉的原料进行处理；

②将砖粉料均匀布料后，通过压机压制成生坯；将生坯放到烘干窑中进行烘干，得到烘干坯；

③在得到的烘干坯上施加低膨胀底釉，再施加开片釉；其中，开片釉的施加比重为1.4-1.6g/cm³，开片釉的施釉量为550-700g/m²；

④将施加开片釉的烘干坯放入辊道窑中进行烧成，得到具有哑光光滑釉面的瓷砖，其中，烧成温度为1200度，烧成时间为32-40分钟；经3-5小时后裂纹完成，即可得到开片瓷砖。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于：在步骤①中，将开片釉的原料处理至250目筛余0.1％。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于：在步骤②中，在将生坯放到烘干窑中进行烘干时，将生坯烘干至剩余0.5％的水分。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于：在步骤③中，施加低膨胀底釉后，还包括对烘干坯进行喷墨打印装饰。

9.如权利要求5所述的方法，其特征在于：在步骤③中，施加开片釉时，施加方式为喷釉。

10.如权利要求5所述的方法，其特征在于：所述砖粉料为瓷质砖粉料或者炻瓷砖粉料。