[发明专利]航空发动机燃油喷嘴表面抗结焦氮化硼涂层技术在审
申请号: | 202210348132.8 | 申请日: | 2022-03-30 |
公开(公告)号: | CN114657542A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 师嘉都;胡平安;周伟星 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/34;C22C19/05 |
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地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 航空发动机 燃油 喷嘴 表面 结焦 氮化 涂层 技术 | ||
1.一种通过等离子体辅助化学气相沉积法在航空发动机喷嘴金属材料表面生长氮化硼(BN)抗结焦涂层的工艺,其工艺特征在于:(1)将需制备涂层的样件进行除油、除锈预处理(2)处理后样件放入反应沉积装置内,通过真空系统使反应腔室内空气尽量排除,通过进气口通入一定流量的载气(3)利用载气流量控制反应腔室内压力在实验需要的值(4)打开加热装置,设定沉积反应所需要的温度和保持时间,反应沉积区升温(5)反应沉积区升温至设定的温度,加热蒸发前驱物开始化学气相沉积过程,并打开等离子体发生器,设定合适的等离子体功率辅助反应(6)反应至设定时间后。结束反应,按设定降温速率降温至室温。
2.如权利1所述,化学气相沉积过程是指将BN涂层所需元素的一种或几种气相化合物或单质作为原料,在样件表面上进行化学反应生成薄膜的方法,等离子体辅助是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,提升等离子体的化学活性,降低反应所需温度,减少能耗,若不采用等离子体辅助,也可通过常压化学气相沉积(APCVD)、低压化学气相沉积(LPCVD)、金属有机化合物化学气相沉积技术(MOCVD)等方法,也在本专利申请保护范围之内。
3.如权利1所述,反应前驱物是为BN涂层制备提供所需的B、N元素的物质,具体可以为固态的硼烷氨络合物,也可以为气态的硼吖嗪,也可以采用硼烷、氨气、氮气、乙硼烷、三氯化硼等一种或几种气体的混合。
4.如权利1所述,载气的种类包括氩气、氮气、氦气、氢气一种或几种气体的混合;反应腔室内压力根据需要可以选为不同范围进行常压化学气相沉积(APCVD)或低压化学气相沉积(LPCVD)。
5.如权利1所述,前驱物加热温度需结合前驱物自身物理化学性质,目的是保障样件表面的化学气相沉积过程发生,亦可用加热外其他方式,也可直接采用气态前驱物直接化学气相沉积薄膜。
6.如权利1所述,反应基底为BN抗结焦涂层防护的样品,可以为航空发动机喷嘴等航空发动机热部件中,也可以为其他需进行抗结焦防护的金属样品表面。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的