[发明专利]清洁基站及表面清洁设备在审

专利信息
申请号: 202210302540.X 申请日: 2022-03-25
公开(公告)号: CN114617494A 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 肖栋;刘德福 申请(专利权)人: 深圳市优必选科技股份有限公司
主分类号: A47L11/283 分类号: A47L11/283;A47L11/40
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 袁哲
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清洁 基站 表面 设备
【权利要求书】:

1.一种清洁基站,其特征在于,包括:机身、洗涤剂提供组件、供水组件和搅拌仓;

所述机身具有定位仓和出液口,所述定位仓用于定位表面清洁装置,所述出液口位于所述定位仓内,所述出液口和所述表面清洁装置的洗涤部对应设置;

所述洗涤剂提供组件设于所述机身上,用于对所述搅拌仓提供洗涤剂;

所述供水组件设于所述机身上,用于对所述搅拌仓提供清水;

所述搅拌仓设于所述机身上,所述搅拌仓内设有搅拌轮,所述搅拌轮能够在所述供水组件提供的流动清水作用下转动,以使洗涤剂和清水混合并将混合液传输至所述出液口。

2.如权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述洗涤剂提供组件包括依次连接的储存仓、控制阀和第一泵体,所述储存仓用于储存洗涤剂,所述控制阀用于控制所述储存仓是否供液,所述第一泵体用于将所述储存仓的洗涤剂传输至所述搅拌仓的输入端。

3.如权利要求2所述的清洁基站,其特征在于,所述洗涤剂提供组件还包括设于所述第一泵体的输出端和所述搅拌仓的输入端之间的单向阀,用于防止所述搅拌仓内的混合液反向流动。

4.如权利要求2所述的清洁基站,其特征在于,所述储存仓具有一个或多个储液腔,每个所述储液腔的顶部具有输入口,每个所述储液腔的底部具有输出口,每个所述储液腔设有用于检测液位是否到底的液位传感器。

5.如权利要求4所述的清洁基站,其特征在于,所述液位传感器包括霍尔传感器板和磁性浮子,所述霍尔传感器板安装在所述储存仓外并对应所述储液腔的底部设置,所述磁性浮子可上下移动地安装于所述储液腔内,所述磁性浮子用于和所述霍尔传感器板配合以检测所述储液腔的液位是否到底。

6.如权利要求5所述的清洁基站,其特征在于,所述储液腔内设有导引部,所述导引部用于导引所述磁性浮子上下移动并限定所述磁性浮子的上下移动范围,所述磁性浮子的上下移动范围小于所述储液腔的深度。

7.如权利要求4所述的清洁基站,其特征在于,在所述储液腔为多个时,至少一个所述储液腔用于储存消毒液,至少一个储液腔用于储存清洁剂;

和/或,在所述储存仓的顶部至底部的方向上,所述储液腔的宽度逐渐变小;

和/或,所述输入口处设有防腐蚀塞。

8.如权利要求1至7任一项所述的清洁基站,其特征在于,所述供水组件包括依次连接的清水仓和第二泵体,所述清水仓用于储存清水,所述第二泵体用于将所述清水仓的清水传输至所述搅拌仓的输入端。

9.如权利要求1至7任一项所述的清洁基站,其特征在于,所述搅拌仓具有一个或多个输出端,所述出液口和所述搅拌仓的输出端的数量相等,所述搅拌仓的输出端和所述出液口之间一一对应地通过管道连接。

10.一种表面清洁设备,其特征在于,包括:表面清洁装置以及如权利要求1至9任一项所述的清洁基站,当所述表面清洁装置位于所述定位仓内时,所述出液口和所述表面清洁装置的洗涤部能够对应设置。

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