[发明专利]高通量自动清洗陶瓷超/微滤系统及其清洗方法

说明书

本发明提供了陶瓷过滤技术领域一种高通量自动清洗陶瓷超/微滤系统及其清洗方法,包括设备机架、过滤机构、自动清洗机构、液压闭合机构；过滤机构设置在设备机架中，过滤机构包括多片封装陶瓷滤膜，封装陶瓷滤膜包括陶瓷滤膜片和封装外框，陶瓷滤膜片固定在封装外框内，多片封装陶瓷滤膜通过通道对应设置；过滤机构一侧设置有开片机构，开片机构包括开片器，开片器在设备机架上移动而依次分开封装陶瓷滤膜，封装陶瓷滤膜通过开片器逐片松开至清洗器，过滤机构、自动清洗机构、液压闭合机构分别通过电控箱控制设置，液压闭合机构包括活塞杆，活塞杆对应封装陶瓷滤膜设置。本发明采用跨膜压差作为判断标准，当压差到一定数值，启动清洗程序。

技术领域

本发明涉及陶瓷过滤技术领域，具体地，涉及一种高通量自动清洗陶瓷超/微滤系统及其清洗方法。

背景技术

膜过滤是一个浓缩过程，将物料进行分离，需要能量的输入，一般来说，过滤是采用压力作为分离动力。超微滤的分离有两种方式，一种是物料供给方向和施压方向相同(正压过滤)；另一种是物料供给方向和施压方向相反(负压过滤)。相比只能一个大气压以下压力过滤的特点，正压过滤能提供高的分离驱动力。高精度分离过程中，被分离物料的对膜污堵问题通常需要采用物理清洗和化学清洗来解决。

常规物理清洗主要采用三种方式：(1)在线反冲洗；(2)离线物理清洗；和(3)化学清洗。由于结构原因，在线反冲洗的膜通量恢复效果不佳，冲洗液体剥落力小，污堵层不容易脱落。另外，反冲洗大量用水(或者其他分离液体)，大大降低产水效率。离线物理清洗工作量大，操作复杂，大的分离系统清洗过程涉及吊装操作。化学清洗中使用了酸与(或)碱形成的清洗废水需要处理，药剂的使用和废水的处理增加运行费用。

目前，正压过滤方式基本都是采用圆柱形的密封容器中设置过滤膜的结构，膜片的面积受限，清洗过程需要拆卸密封容器，操作比价复杂。陶瓷膜初始通量非常大，但是由于大通量运行由于表面附着物的富集，衰减较快。因此本发明采用跨膜压差作为判断标准，当压差到一定数值，启动清洗程序。

经现有技术检索发现，中国实用新型专利公告号为CN209646254U，公开了一种具有固定功能的陶瓷滤膜清洁装置，包括工作台、清洗池以及超声波发生器，所述清洗池位于工作台内部，所述超声波发生器安置于清洗池底部，所述工作台上设有清洗固定机构；所述安装架体位于工作台上，且横跨清洗池，所述伸缩电机固定在安装架体上，所述支撑杆位于伸缩电机的伸缩端上，所述支撑杆固定在伸缩电机的伸缩端上，所述轴架固定于支撑杆上，且驱动电机也位于其上，所述驱动轴通过联轴器与驱动电机进行连接，所述物料架位于驱动轴上。该专利技术就存在上述相关问题。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明的目的是提供一种高通量自动清洗陶瓷超/微滤系统及其清洗方法。

根据本发明提供的一种高通量自动清洗陶瓷超/微滤系统，包括设备机架、过滤机构、自动清洗机构以及液压闭合机构；

所述过滤机构设置在所述设备机架中，所述过滤机构包括多片封装陶瓷滤膜，所述封装陶瓷滤膜包括陶瓷滤膜片和封装外框，所述陶瓷滤膜片固定在所述封装外框内，所述封装外框上开设有通道，多片所述封装陶瓷滤膜通过所述通道对应设置；

所述自动清洗机构包括清洗行走架、升降器以及清洗器，所述清洗行走架设置在所述设备机架上，所述清洗器通过所述升降器升降设置在所述清洗行走架上；

所述过滤机构一侧设置有开片机构，所述开片机构包括开片器，所述开片器在所述设备机架上移动而依次分开所述封装陶瓷滤膜，所述封装陶瓷滤膜通过所述开片器逐片松开至所述清洗器，所述清洗器对应所述封装陶瓷滤膜设置；

所述过滤机构、所述自动清洗机构、所述液压闭合机构分别通过电控箱控制设置，所述液压闭合机构包括活塞杆，所述活塞杆对应所述封装陶瓷滤膜设置。