[发明专利]一种石英晶片清洗烘干系统

说明书

本发明涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种石英晶片清洗烘干系统，包括清洗装置，用于清洗石英晶片，所述清洗装置包括：壳体；进料口以及出料口，分别设置在所述壳体的两侧上；提篮，用于装载石英晶片，设置在所述壳体内；夹具，用于夹取所述提篮，活动设置在所述壳体内；烘干装置，用于烘干清洗后的石英晶片，所述烘干装置包括：炉体，其上设置有进口和出口，用于对石英晶片进行冷却；传送装置，用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中，其两端分别与所述出料口以及所述进口连接。本方案通过传送装置将清洗完毕的石英晶片从清洗装置传送到烘干装置中，避免石英晶片在转运的过程中受到二次污染。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种石英晶片清洗烘干系统。

背景技术

随着电子通信终端换代升级，对于压电石英器件也提出了更高的要求，尤其是在稳定性和小型化方面。其中，石英晶片是压电石英器件中非常重要的组件之一，在石英晶片的加工过程中涉及到清洗烘干工序，清洗好后的晶片通过镀膜形成电极电路，若石英晶片清洗烘干效果不佳将会直接影响到镀膜的效果，从而影响到后续成品质量。因此，清洗烘干工序对最终产品质量是决定性因素。

传统的石英晶片清洗烘干方法是先将晶片在镀膜夹具上排完片并清洗，然后人工将石英晶片放入烘箱进行烘干。从清洗完毕转运到烘箱的过程中，清洗干净后的晶片很容易受到二次污染，从而影响后续的成品质量。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种石英晶片清洗烘干系统，用于解决现有技术中清洗完毕的石英晶片转运的过程中受到污染的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种石英晶片清洗烘干系统，包括用于清洗石英晶片的清洗装置、用于烘干清洗后的石英晶片的烘干装置以及用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中的传送装置，其中，

所述清洗装置包括：壳体，所述壳体的两侧分别设置进料口以及出料口；提篮，设置在所述壳体内，用于装载石英晶体；夹具，活动设置在所述壳体内，用于夹取所述提篮；清洗机构，设置在所述壳体内，包括从进料口向出料口方向依次设置的超声波碱洗槽、第一纯水喷淋漂洗槽、超声波酸洗槽、第二纯水喷淋漂洗槽、兆声波精洗槽以及异丙醇振洗槽；

所述烘干装置包括：炉体，其上设置有进口和出口，并且所述炉体连通有氮气源；传动机构，设置在所述炉体内，用于传送石英晶体；温度控制机构，设置在所述炉体内，用于加热和控制所述炉体内的温度；冷却机构，设置在所述温度控制机构与所述出口之间，用于对石英晶体进行冷却，所述冷却机构包括紫铜管水冷盘和铝翅片散热器，所述紫铜管水冷盘设置在所述铝翅片散热器上；气氛控制机构，设置在所述炉体内，用于调节炉体内氮气气压；至少一台热风风机，设置在所述炉体内，用于驱动炉体内气流循环；

所述传送装置的两端分别与所述出料口以及所述进口连接。

可选地，所述温度控制机构包括沿炉体长度方向排布的多个温区，每个所述温区内分别设置有温控器和热电偶，所述多个温区为从入口向出口依次设置的第一温区、第二温区、第三温区、第四温区以及第五温区，所述第一温区、第二温区、第三温区、第四温区以及第五温区内的温度依次为150±5℃、145±5℃、145±5℃、145±5℃以及150±5℃。

可选地，所述传动机构包括传动辊轮和网带，所述传动辊轮转动连接在所述炉体内，并且所述网带套设在所述传动辊轮上。

可选地，所述传送装置包括传送架、传送带以及传送轮，所述传送架的两端分别与所述清洗装置以及所述烘干装置连接，所述传送轮转动连接在所述传送架上，所述传送带套设在所述传送轮上。

可选地，所述气氛控制机构包括用于控制炉体内气压的减压调节阀门。

可选地，所述超声波碱洗槽内设置有超声波发生器、碱性溶液以及用于检测所述碱性溶液液面高度的高低液位保护机构。