[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 202210280471.7 申请日: 2022-03-21
公开(公告)号: CN114695391A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 蒙艳红 申请(专利权)人: 广州华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L29/12
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 510700 广东省广州市黄埔区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括光感电路,所述光感电路包括第一晶体管和第二晶体管,所述第一晶体管具有第一栅极、第一有源图案、第一源极和第一漏极,所述第二晶体管包括第二栅极、第二有源图案、第二源极和第二漏极;所述阵列基板包括:

第一金属层,包括间隔设置的所述第一栅极和所述第二栅极;

第一有源层,位于所述第一金属层上,所述第一有源层包括所述第一有源图案;

第二有源层,位于所述第一金属层上,所述第二有源层包括与所述第一有源图案间隔设置的所述第二有源图案;

第二金属层,包括位于所述第一有源图案上且间隔设置的所述第一源极和所述第一漏极,以及位于所述第二有源图案上且间隔设置的所述第二源极和所述第二漏极;

电极层,位于所述第二金属层上,所述电极层包括电性连接所述第二栅极和所述第一源极的第一连接部;

其中,所述第一有源层和所述第二有源层的材料不同,所述第一有源层的吸光度大于所述第二有源层的吸光度。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一有源层的材料包括非晶硅,所述第二有源层的材料包括氧化物半导体。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括:第二绝缘层,位于所述第一金属层与所述第二有源层之间;

其中,所述第二绝缘层的靠近所述第一有源层的边缘与所述第二有源图案的边缘平齐;所述第二源极和所述第二漏极与所述第一金属层的距离,大于所述第一源极和所述第一漏极与所述第一金属层的距离。

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,还包括:

第一绝缘层,位于所述第一金属层上,所述第二绝缘层位于所述第一绝缘层和所述第二有源层之间;以及

第三绝缘层,覆盖所述第一有源层、所述第二有源层和所述第二金属层;

其中,所述第二栅极包括相接的第一部和第二部,所述第一部位于所述第二部靠近所述第一栅极的一侧,所述第二有源图案在所述第一金属层上的正投影与所述第一部相接,且与所述第二部至少部分重合;所述第三绝缘层设有暴露出所述第一源极的第一过孔,所述第一绝缘层和所述第三绝缘层设有暴露出所述第一部的第二过孔;

所述第一连接部通过所述第一过孔与所述第一源极电性连接,所述第一连接部通过所述第二过孔与所述第二栅极的所述第一部电性连接。

5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一有源图案在远离所述第一金属层的一侧设有凹槽,所述第一源极与所述第一漏极位于所述凹槽的相对两侧。

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