[发明专利]一种基片曝光方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种基片曝光方法，其特征在于，所述基片曝光包括：

基于待曝光的目标基片中的标记点，确定所述目标基片的水平位置偏移信息；

基于所述目标基片的各个预设曝光区域的布局信息和水平位置偏移信息，确定所述目标基片中每个预设曝光区域的实际水平位置信息；

针对所述目标基片的任一预设曝光区域，将所述目标基片的该预设曝光区域从所述实际水平位置信息对应的实际水平位置处移动至曝光组件对应的曝光位置处；

基于采集到的任一所述预设曝光区域与所述曝光组件之间的像平面的位置信息，确定该预设曝光区域是否满足曝光条件；

若满足，则对所述目标基片的该预设曝光区域进行曝光处理。

2.根据权利要求1所述基片曝光方法，其特征在于，所述像平面的位置信息包括所述像平面的垂直距离、所述像平面的横向偏移角度以及所述像平面的纵向偏移角度，在确定所述基于采集到的任一所述预设曝光区域与所述曝光组件之间的像平面的位置信息满足以下步骤时，确定该预设曝光区域满足曝光条件：

根据采集到的任一所述预设曝光区域与所述曝光组件之间的像平面的垂直距离，确定垂直距离偏差在所述预设焦平面的所述预设焦深区间内；

根据采集到的任一所述预设曝光区域与所述曝光组件之间的所述像平面的横向偏移角度，确定所述横向偏移角度在所述预设焦平面的预设横向偏移角度区间内；

根据采集到的任一所述预设曝光区域与所述曝光组件之间的所述像平面的纵向偏移角度，确定所述纵向偏移角度在所述预设焦平面的预设纵向偏移角度区间内。

3.根据权利要求2所述基片曝光方法，其特征在于，所述基片曝光方法还包括：

若采集到的任一所述预设曝光区域与曝光组件之间的像平面的位置信息中的垂直距离偏差不在预设焦平面的预设焦深区间内，确定出满足预设焦深区间的目标垂直距离，并将目标基片移动至曝光组件的目标垂直距离处；

确定所述目标垂直距离处的所述预设曝光区域中像平面的横向偏移角度和纵向偏移角度是否满足曝光条件；

若满足，则对所述目标基片的该预设曝光区域进行曝光处理；

若不满足，则将所述目标基片的该预设曝光区域的像平面的横向偏移角度调整到预设焦平面的预设横向偏移角度区间以及将纵向偏移角度调整到预设纵向偏移角度区间。

4.根据权利要求2所述基片曝光方法，其特征在于，所述基片曝光方法还包括：

若采集到的任一所述预设曝光区域与曝光组件之间的像平面的位置信息中的横向偏移角度不在预设焦平面的预设横向偏移角度区间内，确定出满足横向偏移角度区间的目标横向偏移角度，并将目标基片横向沿所在方向旋转至目标横向偏移角度处；

确定所述目标横向偏移角度处的所述预设曝光区域中像平面的垂直距离和纵向偏移角度是否满足曝光条件；

若满足，则对所述目标基片的该预设曝光区域进行曝光处理；

若不满足，则将所述目标基片的该预设曝光区域的垂直距离偏差调整到预设焦平面的预设焦深区间以及将纵向偏移角度调整到预设纵向偏移角度区间。

5.根据权利要求2所述基片曝光方法，其特征在于，所述基片曝光方法还包括：

若采集到的任一所述预设曝光区域与曝光组件之间的像平面的位置信息中的纵向偏移角度不在预设焦平面的预设纵向偏移角度区间内，确定出满足纵向偏移角度区间的目标纵向偏移角度，并将目标基片纵向沿所在方向旋转至目标纵向偏移角度处；

确定所述目标纵向偏移角度处的所述预设曝光区域中像平面的垂直距离和横向偏移角度是否满足曝光条件；

若满足，则对所述目标基片的该预设曝光区域进行曝光处理；

若不满足，则将所述目标基片的该预设曝光区域的垂直距离偏差调整到预设焦平面的预设焦深区间以及将横向偏移角度调整到预设横向偏移角度区间。