[发明专利]一种对称叉指结构的2DEG紫外探测器及制备方法有效
申请号: | 202210244562.5 | 申请日: | 2022-03-14 |
公开(公告)号: | CN114678439B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 杨国锋;谷燕;谢峰;陆乃彦;陈国庆;张秀梅;蒋学成 | 申请(专利权)人: | 江南大学 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;H01L31/0224;H01L31/0304;H01L31/18 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 214122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 对称 结构 deg 紫外 探测器 制备 方法 | ||
1.一种对称叉指结构的2DEG紫外探测器,其特征在于,所述紫外探测器从下而上依次包括:衬底层、AlN缓冲层、GaN沟道层、AlGaN势垒层和金属电极层;
所述GaN沟道层和所述AlGaN势垒层形成二维电子气2DEG;
所述AlGaN势垒层为:通过刻蚀AlGaN层而形成的对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极;所述AlGaN 2DEG电极被所述GaN沟道层隔开;
所述金属电极层与所述AlGaN 2DEG电极形成欧姆接触。
2.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述金属电极层的材料为:Ti/Al/Ti/Au复合金属。
3.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述衬底层材料为:蓝宝石。
4.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述AlGaN势垒层的Al组分为0.18。
5.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述紫外探测器的制备方法为在衬底层上生长器件外延异质结构,包括:
步骤1:将未掺杂GaN沉积在AlN缓冲层上;
步骤2:GaN层生长之后,在所述GaN层上沉积未掺杂AlGaN,形成AlGaN层,同时在AlGaN/GaN异质结构界面处形成二维电子气2DEG;
步骤3:对AlGaN层进行台面隔离刻蚀,形成所述对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极;
步骤4:沉积金属电极层。
6.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极形成的传感器阵列,电极的尺寸为宽30μm,长400μm,间距为5μm。
7.一种对称叉指结构的2DEG紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述方法通过在衬底层上生长器件外延异质结构,包括:
步骤1:将未掺杂GaN沉积在AlN缓冲层上;
步骤2:GaN层生长之后,在所述GaN层上沉积未掺杂AlGaN,形成AlGaN层,同时在AlGaN/GaN异质结构界面处形成二维电子气2DEG;
步骤3:对AlGaN层进行台面隔离刻蚀,形成对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极;
步骤4:沉积金属电极层。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述在衬底层上生长器件外延异质结构采用:金属有机化学气相沉积MOCVD方法。
9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述步骤3采用电感耦合等离子体与BCl3/Cl2气体进行台面刻蚀。
10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述步骤3中对称叉指形状的AlGaN2DEG电极形成的传感器阵列,电极的尺寸为宽30μm,长400μm,间距为5μm。
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