[发明专利]一种对称叉指结构的2DEG紫外探测器及制备方法有效

专利信息
申请号: 202210244562.5 申请日: 2022-03-14
公开(公告)号: CN114678439B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 杨国锋;谷燕;谢峰;陆乃彦;陈国庆;张秀梅;蒋学成 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0224;H01L31/0304;H01L31/18
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 张勇
地址: 214122 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 对称 结构 deg 紫外 探测器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种对称叉指结构的2DEG紫外探测器,其特征在于,所述紫外探测器从下而上依次包括:衬底层、AlN缓冲层、GaN沟道层、AlGaN势垒层和金属电极层;

所述GaN沟道层和所述AlGaN势垒层形成二维电子气2DEG;

所述AlGaN势垒层为:通过刻蚀AlGaN层而形成的对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极;所述AlGaN 2DEG电极被所述GaN沟道层隔开;

所述金属电极层与所述AlGaN 2DEG电极形成欧姆接触。

2.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述金属电极层的材料为:Ti/Al/Ti/Au复合金属。

3.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述衬底层材料为:蓝宝石。

4.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述AlGaN势垒层的Al组分为0.18。

5.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述紫外探测器的制备方法为在衬底层上生长器件外延异质结构,包括:

步骤1:将未掺杂GaN沉积在AlN缓冲层上;

步骤2:GaN层生长之后,在所述GaN层上沉积未掺杂AlGaN,形成AlGaN层,同时在AlGaN/GaN异质结构界面处形成二维电子气2DEG;

步骤3:对AlGaN层进行台面隔离刻蚀,形成所述对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极;

步骤4:沉积金属电极层。

6.根据权利要求1所述的紫外探测器,其特征在于,所述对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极形成的传感器阵列,电极的尺寸为宽30μm,长400μm,间距为5μm。

7.一种对称叉指结构的2DEG紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述方法通过在衬底层上生长器件外延异质结构,包括:

步骤1:将未掺杂GaN沉积在AlN缓冲层上;

步骤2:GaN层生长之后,在所述GaN层上沉积未掺杂AlGaN,形成AlGaN层,同时在AlGaN/GaN异质结构界面处形成二维电子气2DEG;

步骤3:对AlGaN层进行台面隔离刻蚀,形成对称叉指形状的AlGaN 2DEG电极;

步骤4:沉积金属电极层。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述在衬底层上生长器件外延异质结构采用:金属有机化学气相沉积MOCVD方法。

9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述步骤3采用电感耦合等离子体与BCl3/Cl2气体进行台面刻蚀。

10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述步骤3中对称叉指形状的AlGaN2DEG电极形成的传感器阵列,电极的尺寸为宽30μm,长400μm,间距为5μm。

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