[发明专利]光栅基底清洗装置及其清洗方法

权利要求书

1.一种光栅基底清洗装置，其特征在于，包括：

基底固定座，用于固定光栅基底；

位于所述基底固定座下方的清洗池，在所述清洗池内装有用于清洗所述光栅基底的酸溶液；

升降机构，分布于所述基底固定座的两侧；

连接轴，所述连接轴的一端与所述基底固定座固定连接，所述连接轴的另一端通过球头万向节与所述升降机构转动连接。

2.如权利要求1所述的光栅基底清洗装置，其特征在于，所述升降机构为直线滑台或直线导轨，所述直线滑台或所述直线导轨包括滑轨和滑块，所述滑块在所述滑轨上滑动，所述球头万向节与所述滑块转动连接。

3.如权利要求2所述的光栅基底清洗装置，其特征在于，在所述基底固定座上开设有供顶丝穿过的螺纹通孔，通过所述顶丝将所述光栅基底固定在所述基底固定座上。

4.一种利用权利要求3所述的光栅基底清洗装置的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、将光栅基底固定到基底固定座上，通过旋转所述基底固定座，使所述光栅基底的镀膜面朝向清洗池；

S2、通过调节所述基底固定座两侧的升降机构，使所述光栅基底的镀膜面浸没在所述清洗池内的酸溶液中，以去除表面油污及杂质；

S3、通过调节所述基底固定座两侧的升降机构，使所述光栅基底的镀膜面离开所述清洗池，并将所述基底固定座旋转180°，使所述光栅基底的镀膜面朝向上方；

S4、通过去离子水冲洗所述光栅基底的镀膜面，并通过乙醇和乙醚的混合溶液擦拭所述光栅基底的镀膜面；

S5、对所述光栅基底的镀膜面喷涂清洁保护剂，待所述清洁保护剂完全干燥后形成保护膜层，去除所述保护膜层将所述光栅基底的镀膜面擦拭残留的杂质颗粒及灰尘颗粒清除。

5.如权利要求4所述的光栅基底清洗装置的清洗方法，其特征在于，在步骤S4中，通过去离子水冲洗所述光栅基底的镀膜面之前，先通过调节所述基底固定座两侧的升降机构，使所述光栅基底的镀膜面以预设角度倾斜于水平面；

在步骤S5中，对所述光栅基底的镀膜面喷涂清洁保护剂之前，调节所述基底固定座两侧的升降机构，将所述光栅基底调至水平。

6.如权利要求4或5所述的光栅基底清洗装置的清洗方法，其特征在于，在步骤S1中，锁紧所述光栅基底上的顶丝，将所述光栅基底固定。