[发明专利]基于二维磷化锗的可饱和吸收体及其制备方法和光纤激光器

权利要求书

1.基于二维磷化锗的可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

研磨磷化锗，并加入N-甲基吡咯烷酮NMP溶剂；

将所述磷化锗与所述NMP溶剂的混合浆液进行超声处理，得到磷化锗纳米片/NMP溶液；

将所述磷化锗纳米片/NMP溶液进行离心处理，得到磷化锗纳米片。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，将所述磷化锗与所述NMP溶剂的混合浆液进行超声处理，包括：

在氩气环境下，将所述磷化锗与所述NMP溶剂的混合浆液转移至第一超声设备，并在第一功率下经过第一时长的超声处理。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，将所述磷化锗与所述NMP溶剂的混合浆液进行超声处理，还包括：

将经过超声处理的所述混合浆液转移到装有NMP溶剂的玻璃瓶，并将所述玻璃瓶放置在第二超声设备中，且在温度为10℃–12℃环境下以第二功率经过第二时长的超声处理，所述第二功率大于所述第一功率，所述第二时长大于所述第一时长。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，研磨磷化锗并加入N-甲基吡咯烷酮NMP溶剂，包括：

将磷化锗在玛瑙研钵中研磨3–5分钟，并加入第一份量的所述NMP溶剂，且重复多次研磨以得到磷化锗晶体。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，将经过超声处理的所述混合浆液转移到装有NMP溶剂的玻璃瓶，包括：

将经过超声处理的所述混合浆液转移到装有第二份量NMP溶剂的所述玻璃瓶中，所述第二份量大于所述第一份量。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，将所述磷化锗纳米片/NMP溶液进行离心处理，包括：

将所述磷化锗纳米片/NMP溶液在第一转速下经过第三时长的初次离心处理；

将所述磷化锗纳米片/NMP溶液在第二转速下经过第四时长的二次离心处理，且利用无水乙醇和异丙醇反复洗涤经离心处理后的所述磷化锗纳米片，所述第二转速大于所述第一转速。

7.基于二维磷化锗的可饱和吸收体，其特征在于，包括采用如权利要求1至6任一项所述的方法制备而成。

8.根据权利要求1所述的可饱和吸收体，其特征在于，所述磷化锗纳米片的厚度为h，满足h≤10nm。

9.激光器，其特征在于，包括如权利要求7至8任一项所述的可饱和吸收体。

10.根据权利要求9所述的激光器，其特征在于，所述激光器为全光纤激光器。