[发明专利]一种干式清洗设备

权利要求书

1.一种干式清洗设备，其特征在于，包括：

承载台，用于承载待清洗件；

线型喷嘴，位于所述承载台的上方，所述线型喷嘴内部安装有等离子体产生器，所述线型喷嘴的出气端与所述待清洗件相对设置，所述等离子体产生器用于产生等离子体，所述等离子体从所述线型喷嘴的出气端喷射至所述待清洗件上；

气体控制组件，通过导管与所述线型喷嘴的进气端连接，用于对所述线型喷嘴进行抽气和气体输送。

2.根据权利要求1所述的干式清洗设备，其特征在于，所述线型喷嘴内设有相互独立的进气管路和抽气管路，所述抽气管路用于抽吸气体，所述进气管路用于输送所述等离子体产生器产生的等离子体。

3.根据权利要求2所述的干式清洗设备，其特征在于，所述等离子体产生器包括电极和介电屏蔽板，所述介电屏蔽板围成所述进气管路，所述电极位于所述介电屏蔽板的外周。

4.根据权利要求3所述的干式清洗设备，其特征在于，所述电极与高压电源连接，所述高压电源产生电压大于10kv、频率为1-100kHz的交流电。

5.根据权利要求1所述的干式清洗设备，其特征在于，所述导管包括抽气导管和进气导管，所述气体控制组件包括真空吸力调节阀门和气体流量调节阀门，所述真空吸力调节阀门设置于所述抽气导管上，所述气体流量调节阀门设置于所述进气导管上。

6.根据权利要求5所述的干式清洗设备，其特征在于，所述进气导管设有多个，不同的所述进气导管输送不同的气体，所述气体包括空气、氮气、氧气、氦气和氩气。

7.根据权利要求1所述的干式清洗设备，其特征在于，所述线型喷嘴上设有测距仪，所述测距仪用于测量所述线型喷嘴到所述待清洗件表面的距离。

8.根据权利要求7所述的干式清洗设备，其特征在于，所述承载台与位移组件连接，所述位移组件与所述测距仪电连接，所述位移组件根据所述测距仪的测量结果对所述承载台进行位置调节。

9.根据权利要求1所述的干式清洗设备，其特征在于，所述线型喷嘴的出气端与所述待清洗件表面之间距离范围为1-5mm。

10.根据权利要求3或4所述的干式清洗设备，其特征在于，所述介电屏蔽板的材料为石英或者氧化铝。