[发明专利]显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种显示装置，包括：

一显示模块，包括一显示区以及一非显示区；以及

一偏光模块，设置在该显示模块上，包括：

一偏光层；

一低延迟层；以及

一四分之一波片层，其中该低延迟层及该四分之一波片层设置在该偏光层与该显示模块之间，且该四分之一波片层设置在该低延迟层旁。

2.如权利要求1所述的显示装置，其中该四分之一波片层在该显示模块上的正投影与该显示区不互相重叠。

3.如权利要求1所述的显示装置，其中该偏光模块还包括一表面处理层、一保护层、一补偿层以及一透明胶层，该表面处理层、该保护层、该偏光层、该补偿层、该低延迟层与该透明胶层沿一堆叠方向按序堆叠，其中该堆叠方向由该偏光模块朝该显示模块定义。

4.如权利要求1所述的显示装置，其中该低延迟层在380纳米至780纳米范围内的R0绝对值小于等于20纳米，R0＝(nx-ny)*d，nx与ny分别为在该低延迟层表面上两个互相垂直的轴向的折射率，以及d为该低延迟层的厚度。

5.如权利要求1所述的显示装置，其中该低延迟层的光轴轴向与该偏光层的吸收轴方向相同。

6.一种显示装置的制作方法，包括：

提供一显示模块，其中该显示模块包括一显示区以及一非显示区；以及

在该显示模块上设置一偏光模块，其中该偏光模块包括一偏光层、一低延迟层以及一四分之一波片层，该低延迟层与该四分之一波片层设置在该偏光层与该显示模块之间，且该四分之一波片层设置在该低延迟层旁。

7.如权利要求6所述的显示装置的制作方法，其中该四分之一波片层在该显示模块上的正投影与该显示区不互相重叠。

8.如权利要求6所述的显示装置的制作方法，还包括形成该偏光模块，包括：

提供一偏光基底层，其中该偏光基底层包括一裁切前偏光层；

在该裁切前偏光层上形成一第一裁切前低延迟层、一第二裁切前低延迟层以及一裁切前四分之一波片层，以形成一第一裁切前偏光模块，其中该裁切前四分之一波片层位于该第一裁切前低延迟层与第二裁切前低延迟层之间；以及

沿一第一轮廓或一第二轮廓裁切该第一裁切前偏光模块，以形成该偏光模块，其中该第一轮廓包括部分的该第一裁切前低延迟层及部分的该裁切前四分之一波片层，且该第二轮廓包括部分的该第二裁切前低延迟层及部分的该裁切前四分之一波片层。

9.如权利要求6所述的显示装置的制作方法，还包括形成该偏光模块，包括：

提供一偏光基底层，其中该偏光基底层包括一裁切前偏光层；

在该裁切前偏光层上形成一裁切前低延迟层、一第一裁切前四分之一波片层以及一第二裁切前四分之一波片层，以形成一第二裁切前偏光模块，其中该裁切前低延迟层位于该第一裁切前四分之一波片层与该第二裁切前四分之一波片层之间；以及

沿一第三轮廓或一第四轮廓裁切该第二裁切前偏光模块，以形成该偏光模块，其中该第三轮廓包括部分的该裁切前低延迟层及部分的该第一裁切前四分之一波片层，且该第四轮廓包括部分的该裁切前低延迟层及部分的该第二裁切前四分之一波片层。

10.如权利要求6所述的显示装置的制作方法，还包括形成该偏光模块，包括：

提供一偏光基底层，其中该偏光基底层包括一裁切前偏光层；

在该裁切前偏光层上形成一裁切前低延迟层以及一裁切前四分之一波片层，以形成一第三裁切前偏光模块，其中该裁切前低延迟层位于该裁切前四分之一波片层旁；以及

沿一第五轮廓裁切该第三裁切前偏光模块，以形成该偏光模块，其中该第五轮廓包括部分的该裁切前低延迟层及部分的该裁切前四分之一波片层。