[发明专利]一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置及其控制方法

权利要求书

1.一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，

所述带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置包括活塞筒，高压空气源与所述活塞筒的顶部通过压冲电磁阀相连接，真空源与所述活塞筒的顶部通过抽吸电磁阀相连接；所述活塞筒通过底部开口与料液相连通；提升管沿所述活塞筒的轴向嵌入，底部开口位于所述活塞筒的下部，顶部开口位于所述活塞筒的外部；

还包括压冲过程控制装置，所述压冲过程控制装置包括压冲控制电磁阀、压差传感器与低液位探测管；所述低液位探测管沿所述活塞筒的轴向嵌入，底部开口位于所述活塞筒的下部，顶部开口位于所述活塞筒的外部；压冲控制高压空气源与所述低液位探测管的顶部开口通过所述压冲控制电磁阀相连接，所述压差传感器的高压端与所述低液位探测管的顶部开口相连接，所述压差传感器的低压端与所述活塞筒的顶部相连接；

所述控制方法包括周期性依次进行的高压压冲、余压压冲与抽吸；

所述高压压冲包括：同时打开压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，关闭抽吸电磁阀；通过所述压冲电磁阀将来源于高压空气源的压力为P_HC的高压空气进入活塞筒中，驱动其中填充的料液向下，通过提升管的底部开口进入提升管实现料液输送；同时，通过所述压冲控制电磁阀将来源于压冲控制高压空气源的压力为P_LC的高压空气进入低液位探测管，防止料液沿所述低液位探测管上行；实时监测压差传感器的压差信号∆P_L，若监测到∆P_L≤(P_LC-P_HC)-∆P_H时，同时关闭压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，进入余压压冲；所述高压压冲中∆P_H对应于液位下降导致的低液位探测管和活塞筒之间的压差变化；

所述余压压冲包括：在压冲电磁阀、压冲控制电磁阀以及抽吸电磁阀均关闭的状态下，活塞筒中现存的高压空气自由膨胀并驱动料液继续下行，实时监测压差传感器的压差信号∆P_L，若监测到∆P_L≤∆P_L,set时，即目标低液位到达，打开抽吸电磁阀，进入抽吸过程；

所述抽吸包括：打开抽吸电磁阀，维持压冲电磁阀与压冲控制电磁阀均关闭的状态，通过所述抽吸电磁阀将活塞筒与真空源相连通，使得活塞筒内产生负压，料液通过活塞筒的底部开口填充至活塞筒内直至目标高液位，同时打开压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，关闭抽吸电磁阀，重新进行下一次高压压冲。

2.根据权利要求1所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，在所述活塞筒的底部设置RFD元件，所述RFD元件的第一开口与所述活塞筒的内部相连通，所述RFD元件的第二开口与所述活塞筒的底部开口相重合，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液相连通；所述RFD元件的出口与所述提升管的底部开口相连通。

3.根据权利要求2所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液贮罐中的料液相连通。

4.根据权利要求1所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，所述低液位探测管的外径为6-10mm，内径为4-8mm。

5.根据权利要求1所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，所述低液位探测管的底部开口与所述活塞筒的底部之间距离为400-500mm。