[发明专利]刻蚀终点检测方法及装置

权利要求书

1.一种刻蚀终点检测方法，其特征在于，包括：

通过电源调制信号对刻蚀电源信号进行调幅得到刻蚀调幅信号；

获取光谱仪采集的基于等离子体刻蚀样品生成的光谱信号；其中，所述等离子体由刻蚀工艺系统基于所述刻蚀调幅信号加载生成；

通过所述电源调制信号对所述光谱信号进行混频滤波处理；

根据经过混频滤波处理的光谱信号检测刻蚀终点。

2.根据权利要求1所述的刻蚀终点检测方法，其特征在于，还包括：

获取所述样品的膜层结构；

根据所述膜层结构确定所述电源调制信号。

3.根据权利要求1所述的刻蚀终点检测方法，其特征在于，根据经过混频滤波处理的光谱信号检测刻蚀终点包括：

根据所述经过混频滤波处理的光谱信号获取各元素的光强曲线；

根据各光强曲线的变化速率检测刻蚀终点。

4.根据权利要求3所述的刻蚀终点检测方法，其特征在于，根据所述经过混频滤波处理的光谱信号获取各元素的光强曲线包括：

根据所述经过混频滤波处理的光谱信号获取各波长的光强曲线；

根据所述样品的膜层结构和各波长的光强曲线确定各元素的光强曲线。

5.一种刻蚀终点检测装置，其特征在于，包括：

刻蚀调幅信号模块，用于通过电源调制信号对刻蚀电源信号进行调幅得到刻蚀调幅信号；

光谱信号获取模块，用于获取光谱仪采集的基于等离子体刻蚀样品生成的光谱信号；其中，所述等离子体由刻蚀工艺系统基于所述刻蚀调幅信号加载生成；

混频模块，用于通过所述电源调制信号对所述光谱信号进行混频滤波处理；

刻蚀终点检测模块，用于根据经过混频滤波处理的光谱信号检测刻蚀终点。

6.根据权利要求5所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，还包括：

膜层结构获取模块，用于获取所述样品的膜层结构；

电源调制信号确定模块，用于根据所述膜层结构确定所述电源调制信号。

7.根据权利要求5所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述刻蚀终点检测模块包括：

光强曲线单元，用于根据所述经过混频滤波处理的光谱信号获取各元素的光强曲线；

刻蚀终点检测单元，用于根据各光强曲线的变化速率检测刻蚀终点。

8.根据权利要求7所述的刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述光强曲线单元包括：

第一光强曲线子单元，用于根据所述经过混频滤波处理的光谱信号获取各波长的光强曲线；

第二光强曲线子单元，用于根据所述样品的膜层结构和各波长的光强曲线确定各元素的光强曲线。

9.一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至4任一项所述的刻蚀终点检测方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至4任一项所述的刻蚀终点检测方法的步骤。