[发明专利]测色装置

说明书

本发明涉及测色装置。若反射基准面被污染，则无法获取适当的反射基准值，但在以往的测色装置中未考虑反射基准面的维护性。测色装置具备：开口部，形成于在装置的底部配置的开口部形成构件，用于将从测定对象发来的光取入到装置内部；发光部，朝向所述测定对象发出测定用的光；入射光处理部，对通过所述开口部入射的光进行处理；以及快门单元，能够切换覆盖所述开口部的封闭状态和进行测色时的状态即开放所述开口部的开放状态，在所述封闭状态下在面向所述开口部的位置具有作为反射率的基准的反射基准面，所述快门单元被设置为，除了所述封闭状态以及所述开放状态之外，还能够切换为使所述反射基准面向装置的外侧露出的露出状态。

技术领域

本发明涉及基于从测定对象发来的光进行测色的测色装置。

背景技术

以往，已知有基于从测定对象发来的光进行测色的测色装置。在测色装置中，例如存在如下测色装置：使从测定对象发来的光入射到分光滤光器，通过分光滤光器取出规定波长分量并通过光电二极管受光，通过检测从光电二极管输出的电压来进行测色。在这样的测色装置中，开口部设置于装置主体的底面。若保持开放该开口部的状态，则尘埃等进入装置内部，因此如专利文献1所示，存在设置能够对覆盖开口部的状态和露出开口部的状态进行切换的构件的情况。

在专利文献1中，覆盖开口部的构件被称为支承板。支承板设置成能够在覆盖作为开口部的测定窗口的位置和使测定窗口露出的位置之间移动。在支承板上设置有白色基准砖作为反射基准面，在支承板覆盖测定窗口的状态下，构成为能够获取白色基准值。

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0328656号说明书

若反射基准面被污染，则无法获取适当的反射基准值，但在以往的测色装置中，未考虑过反射基准面的维护性。

发明内容

用于解决上述课题的本发明的测色装置的特征在于，具备：开口部，形成于在装置的底部配置的开口部形成构件，用于将从测定对象发来的光取入到装置内部；发光部，朝向所述测定对象发出测定用的光；入射光处理部，对通过所述开口部入射的光进行处理；以及快门单元，能够切换覆盖所述开口部的封闭状态和作为进行测色时的状态的开放所述开口部的开放状态，在所述封闭状态下所述快门单元在面向所述开口部的位置具有作为反射率的基准的反射基准面，所述快门单元被设置为，除了所述封闭状态和所述开放状态之外，还能够切换为使所述反射基准面向装置的外侧露出的露出状态。

附图说明

图1是表示测色装置的功能的框图。

图2是光学滤波器设备的剖视图。

图3是表示测色装置的上表面的立体图。

图4是表示快门单元处于封闭状态的测色装置的底面的立体图。

图5是测色装置的上表面的俯视图。

图6是快门单元处于封闭状态的测色装置的底面的俯视图。

图7是快门单元处于开放状态的测色装置的底面的俯视图。

图8是图6的A-A剖视图。

图9是图7的B-B剖视图。

图10是快门单元的立体图。

图11是快门单元处于开放状态的测色装置的底面的立体图。

图12是从图11的状态拆下底部第二框架后的状态的图。

图13是使快门单元从图12的状态向+Y方向滑动后的状态的图。

图14是使快门构件从图13的状态旋转后的状态的图。

图15是图6的C-C剖视图。

图16是从图15的状态拆下底部第二框架后的状态的图。