[发明专利]微流控装置及其制作方法

权利要求书

1.一种微流控装置，其特征在于，包括：

第一基板，所述第一基板包括至少一个通道和至少一个第一凸起结构，沿垂直于所述第一基板所在平面的方向上，所述通道未贯穿所述第一基板，至少一个所述通道内设置有至少一个所述第一凸起结构；

第二基板，与所述第一基板相对设置，且所述第二基板位于所述第一基板设有所述通道的一侧。

2.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，

至少一个所述通道包括一个第一通道、与所述第一通道相贯通的至少两个第二通道，相邻两个所述第二通道之间设有一个所述第一凸起结构；

所述第一凸起结构包括沿第一方向排列的第一子部和第二子部，所述第二子部位于所述第一子部靠近所述第一通道的一侧；

沿第二方向，所述第二子部的至少部分的宽度小于所述第一子部的宽度，其中，所述第一方向和所述第二方向相交。

3.根据权利要求2所述的微流控装置，其特征在于，

所述第二子部包括两个第一侧面，沿所述第二方向，两个所述第一侧面分别位于所述第二子部的两侧；

沿所述第一子部指向所述第二子部的方向上，两个所述第一侧面朝向靠近彼此的方向延伸。

4.根据权利要求3所述的微流控装置，其特征在于，

所述第二子部在所述第二基板所在平面的垂直投影图案为三角形。

5.根据权利要求3所述的微流控装置，其特征在于，

所述第一侧面包括第一边缘，沿所述第一方向，所述第一边缘位于所述第一侧面远离所述第一子部的一侧；

沿所述第一基板指向所述第二基板的方向上，所述第一边缘朝向靠近所述第一子部的方向延伸。

6.根据权利要求5所述的微流控装置，其特征在于，

所述第一边缘为台阶形折线结构。

7.根据权利要求2所述的微流控装置，其特征在于，

沿垂直于所述第二基板所在平面的方向上，所述第一子部的高度与所述通道的高度相同。

8.根据权利要求2所述的微流控装置，其特征在于，

至少一个所述通道还包括多个第三通道，一个所述第二通道与至少两个所述第三通道相贯通，相邻两个所述第三通道之间设有一个所述第一凸起结构。

9.根据权利要求2所述的微流控装置，其特征在于，

至少一个所述第二通道内设有检测区。

10.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，

所述第一基板还包括进样口和出样口，沿垂直于所述第一基板所在平面的方向上，所述进样口和所述出样口均贯穿所述第一基板，所述通道的一端与所述进样口相贯通，所述通道的另一端与所述出样口相贯通。

11.根据权利要求10所述的微流控装置，其特征在于，

所述进样口与所述通道一一对应，所述通道和与其对应的所述进样口相贯通。

12.根据权利要求10所述的微流控装置，其特征在于，

所述第一基板远离所述第二基板的一侧设有第二凸起结构，所述第二凸起结构至少部分围绕所述进样口设置。

13.根据权利要求12所述的微流控装置，其特征在于，

所述第二凸起结构为环状结构。

14.根据权利要求10所述的微流控装置，其特征在于，

所述出样口的数量为一个，所述通道均与同一个所述出样口相贯通。

15.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，

所述第二基板包括衬底基板、在所述衬底基板靠近所述第一基板的一侧依次设置的电路层、电极层和疏水层；

所述电极层包括阵列排布的多个驱动电极。