[发明专利]一种釉水自动配制生产系统在审

专利信息
申请号: 202210179356.0 申请日: 2022-02-25
公开(公告)号: CN114589797A 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 蔡伟;许平;刘杰波;夏鑫宇;姜鹏宇;董家富;王立清;马彦;周明;郭鹏鹏;杨阳;董景辉;蔡宇祥 申请(专利权)人: 晋江哈创投资有限公司
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04;B28B15/00;B28B17/00
代理公司: 泉州市立航专利代理事务所(普通合伙) 35236 代理人: 卢清华
地址: 362200 福建省泉州市晋江市罗山街道世*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动 配制 生产 系统
【权利要求书】:

1.一种釉水自动配制生产系统,其特征在于,包括用于存放配制用的原料的库存区、其工作端上设有复合手抓部件的多轴机械臂以及围绕在多轴机械臂周围布设并且在多轴机械臂的复合手抓部件活动能及的范围布设的配制区、球磨工作区、清洗排料区和控制系统;所述库存区内整齐布设有一排或多排用于放置盒类物料的立体库架以及进行抓取或放置盒类物料的机械取放料装置,立体库架的一侧为供取放料工作的巷道,所述机械取放料装置活动在巷道内并且巷道的一端为盒类物料的进出料端对应配制区;所述配制区设有配制平台,所述配制平台包括对应进出料端进行用料和回放接应的传输装置以及能够放置球磨罐并且实现将传输装置传输过来的盒类物料进行定量取料在球磨罐内和取料后放回传输装置的配制装置;所述球磨工作区布设有一台或多台球磨机;所述清洗排料区设有用于清洗分类研磨球和排出釉水的清洗分类装置,所述控制系统用于控制整个系统的工作运行。

2.如权利要求1所述的一种釉水自动配制生产系统,其特征在于,围绕在多轴机械臂周围布设并且在多轴机械臂的复合手抓部件活动能及的范围布设的还包括有烧制区和自动包装区,和/或围绕在多轴机械臂周围布设的人工操作区;所述烧制区包括有用于搅拌釉水的搅拌装置、用于输送桶装釉水的桶装釉水输送线、用于放置陶瓷胚料的胚料放置台、用于陶瓷胚料烧制的窑炉以及胚料抓取机械臂,所述桶装釉水输送线的一端朝向多轴机械臂为多轴机械臂活动能及的一端并且所述搅拌装置对应该端设置,所述胚料抓取机械臂工作在桶装釉水输送线、胚料放置台与窑炉之间用于抓取陶瓷胚料蘸取釉水放置在窑炉内烧制和烧制后抓取出;所述自动包装区设有釉水分包装设备。

3.如权利要求1或2所述的一种釉水自动配制生产系统,其特征在于,所述机械取放料装置包括平移底板、下端连接在平移底板上的升降立柱、设置在平移底板和/或升降立柱上端由其带动平移的平移机构、设置在升降立柱上的升降移动机构、对应在升降立柱的一侧面设置在升降移动机构上由其带动升降的取放料机构,所述取放料机构包括上下间隔开设置在升降移动机构上的供盒类物料放置的载物平台和用于将盒类物料拉入或推出载物平台的推拉机构;所述传输装置包括对应在进出料端的一侧或相对两侧并且可与载物平台接驳的定向输送装置或可转向输送装置、对应接驳定向输送装置或可转向输送装置的多输送带输送装置以及接驳多输送带输送装置和配制装置的对接输送装置,所述多输送带输送装置具有并排设置的多个输送带并且具有能够带动多个输送带往复横移的往复横移机构,通过往复横移机构带动多输送带输送装置的其一输送带接驳在可转向输送装置与对接输送装置之间。

4.如权利要求3所述的一种釉水自动配制生产系统,其特征在于,所述升降移动机构包括有通过驱动升降结构带动实现升降移动的升降安装板,所述载物平台包括固定连接在升降安装板上的底板、设置在底板上的供盒类物料放置的载物架以及设置在底板上能够相对载物架实现升降与盒类物料接触或分离并且能够在接触时带动盒类物料移动放置在载物架上或移动出载物架的横移带动机构;所述横移带动机构包括固定安装在载物架或底板上的顶升气缸、连接在顶升气缸的活塞杆上由其带动顶升动作的顶升安装板、固定设置在顶升安装板上的水平移动机构和固定设置在水平移动机构上由其带动水平移动的带动块,所述带动块用于与盒类物料定位接触带动;和/或,所述推拉机构包括通过导向滑动结构部件连接在升降安装板上的升降架、设置在升降安装板上并其活塞杆与升降架连接的升降气缸、设置在升降架上的伸缩气缸以及设置在伸缩气缸的活塞杆上的推拉部件,所述推拉部件供与盒类物料定位接触带动,所述升降架上的伸缩气缸和推拉部件的设置在升降上对应载物平台的进出料方向的一端设置或者对应载物平台的进出料方向的两端设置;和/或,所述载物平台上还包括有用于防止放置在载物平台上的盒类物料滑动的抱紧装置;所述抱紧装置包括对应载物平台的侧边安装设置的支架、设置在支架上部的横板、横板的两端上分别铰接设置的抱紧夹杆、连接两抱紧夹杆同朝向一端的开合气缸和供开合气缸可活动架设在横板上的铰接架,两抱紧夹杆的同朝向另一端朝向横移带动机构方向延伸;和/或,所述平移机构包括地面轨道、与地面轨道平行上端轨道、设置在底面轨道与平移底板之间的驱动平移结构以及设置在升降立柱上端并滑动在上端轨道上的滑轮组件;所述升降立柱与平移底板之间设有用于稳定升降立柱垂直的垂直支撑结构。

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