[发明专利]一种调节离子刻蚀均匀性的孔丁和方法

权利要求书

1.一种调节离子刻蚀均匀性的孔丁，其特征在于：包括帽部和杆部，所述杆部的一端与帽部固定连接，所述杆部的侧面设置有槽口。

2.根据权利要求1所述的调节离子刻蚀均匀性的孔丁，其特征在于：所述杆部连接于帽部上偏离帽部中心的位置。

3.根据权利要求2所述的调节离子刻蚀均匀性的孔丁，其特征在于：所述槽口的宽度等于栅网的金属片的厚度。

4.根据权利要求3所述的离子调节刻蚀均匀性的孔丁，其特征在于：所述帽部的尺寸能够覆盖一个栅网的孔洞或相邻的多个栅网的孔洞。

5.根据权利要求4所述的离子调节刻蚀均匀性的孔丁，其特征在于：所述帽部的截面呈圆形。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的离子调节刻蚀均匀性的孔丁，其特征在于：所述杆部上具有多个槽口，多个槽口沿杆部的长度方向均匀分布，相邻两个槽口的间距等于栅网的相邻两片金属片的间距。

7.根据权利要求6所述的离子调节刻蚀均匀性的孔丁，其特征在于：所述帽部和杆部的材质为陶瓷或石英。

8.一种调节离子刻蚀均匀性的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：采用离子源栅网刻蚀晶圆，获得离子刻蚀厚度或速率分布数据；

S2：制备刻蚀厚度或速率T＝f(r/R)图；

S3：根据T＝f(r/R)图判读是否满足刻蚀均匀性的要求；

S4：如果满足刻蚀均匀性的要求，则进入步骤S5；如果不满足刻蚀均匀性的要求，则依照T＝f(r/R)图，在刻蚀厚度较高处对应的离子源栅网位置，插入若干孔丁，然后返回步骤S1；

S5：结束调节。