[发明专利]铜箔石墨膜及其制备方法在审
申请号: | 202210159182.1 | 申请日: | 2022-02-21 |
公开(公告)号: | CN114434894A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 李金明 | 申请(专利权)人: | 江西柔顺科技有限公司 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B9/04;B32B15/20;B32B37/10;B32B38/00;C23C18/16;C23C18/38;C23C18/48 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 侯柏龙 |
地址: | 341699 江西省赣州*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜箔 石墨 及其 制备 方法 | ||
1.一种铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,包括步骤:
(1)提供铜箔基板,且于所述铜箔基板一侧贴附干膜;
(2)对所述干膜进行曝光工艺;
(3)进行显影工艺,曝光部分露出所述铜箔基板,未曝光部分被所述干膜覆盖;
(4)在曝光部分露出的所述铜箔基板表面沉积金属形成铜柱;
(5)将所述干膜退去;
(6)将半成品石墨膜与所述铜箔基板含所述铜柱一侧进行压合,得到铜箔石墨膜。
2.如权利要求1所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,在所述铜箔基板的铜箔面贴附导热双面胶、导热硅胶或导热硅脂。
3.如权利要求1所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,所述铜柱的直径为5-300μm。
4.如权利要求3所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,所述铜柱的直径为10-100μm。
5.如权利要求1所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,两相邻所述铜柱之间的距离为10-200μm。
6.如权利要求1所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,将PI膜进行加热碳化、石墨化,再进行压延处理得到所述半成品石墨膜。
7.如权利要求6所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,将所述PI膜送入炭化炉中,升温至1000-1200℃进行加热碳化,冷却后得到碳化膜;
然后将所述碳化膜送入石墨化炉中,升温至2500℃-3000℃进行石墨化,冷却后得到石墨化膜;
再将所述石墨化膜进行压延处理得到所述半成品石墨膜。
8.如权利要求1所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,通过化学镀、化学沉铜中的任一种方式形成所述铜柱。
9.如权利要求1所述的铜箔石墨膜的制备方法,其特征在于,所述金属可选自Cu或Cu/Ni合金。
10.一种铜箔石墨膜,其特征在于,采用如权利要求1-9任一项所述的制备方法制得。
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