[发明专利]一种高透光低雾度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种高透光低雾度的乙烯‑四氟乙烯共聚物膜的制备方法，其特征在于：其通过流延膜挤出工艺进行制备，其工艺控制参数为：挤出机的挤出速率6Hz，挤出机的料筒的温度为250‑330℃，成型辊运行速度4‑7m/min，牵引运行速度4‑10m/min，拉伸比：10‑35；平衡比：1.05‑1.10，电磁成型辊表面采用镀硬铬、特氟龙、陶瓷或硅橡胶设置，电磁成型辊的辊筒表面硬度：HRC＝62；电磁成型辊直径265‑290mm×600‑800mm；电磁成型辊温度为80‑150℃。本发明的优点是在提高ETFE薄膜的透明度同时保证了良好的平整性、优异的耐高温性、尺寸稳定性、介电特性、阻燃性以及化学稳定性。该膜广泛应用于新能源、半导体电子、薄膜建筑、电子电气、航天航空等领域。

技术领域

本发明涉及乙烯-四氟乙烯共聚物膜，具体是指一种高透光低雾度的乙烯- 四氟乙烯共聚物膜及其制备方法。

背景技术

乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)是一种氟塑料，它在保持了PTFE良好的耐热、耐化学性能和电绝缘性能的同时，耐辐射和机械性能有很大程度的改善，拉伸强度可达到50MPa，接近聚四氟乙烯的2倍。ETFE膜材料是无织物基材的透明膜材料，其延伸率可达420％～440％。ETFE膜材料的透光光谱与玻璃相近(俗称为软玻璃)。其性能优异，具有良好的化学稳定性能与防腐蚀性能，耐候性能极佳。质量轻，只有同等大小玻璃的1％；韧性好、抗拉强度高、不易被撕裂，延展性大于400％；耐候性和耐化学腐蚀性强，熔融温度高达200℃；具有良好的声学性能。自清洁功能使表面不易沾污，且雨水冲刷即可带走沾污的少量污物，清洁周期大约为5年。

ETFE薄膜在新能源、半导体电子、薄膜建筑、电子电气、航天航空等领域有广泛的用途。尤其是开发透光低雾度ETFE膜更是市场亟待解决的技术问题。本发明人在研究中发现，制备高透光低雾度ETFE膜的关键工艺在于原料的加热温度，防止催化剂残留引起二次聚合和局部温度过高爆聚甚至碳化。基于此研究，本申请提出本申请的创新方案。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足，而提供一种高透光低雾度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜及其制备方法。

为实现上述目的，本发明的第一个方面是提供一种高透光低雾度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜的制备方法，其技术方案是一种高透光低雾度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜的制备方法，其特征在于：其通过流延膜挤出工艺进行制备，其工艺控制参数为：挤出机的挤出速率6Hz，挤出机的料筒的温度为250-330℃，成型辊运行速度4-7m/min，牵引运行速度4-10m/min，拉伸比：10-35；平衡比： 1.05-1.10，电磁成型辊表面采用镀硬铬、特氟龙、陶瓷或硅橡胶设置，电磁成型辊的辊筒表面硬度：HRC＝62；电磁成型辊直径265-290mm×600-800mm；电磁成型辊温度为80-150℃。

本发明的公开一种如所述制备方法所制备的高透光低雾度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜。

本发明人改进的工艺能够让原料达到熔融温度，而采用电磁成型辊进行冷却成型能防止温度过高导致爆聚，在保障抗拉强度的同时，ETFE膜产品的透光度较好，雾度较低，有利于产品的应用。

具体请参阅本发明的实施例和实验数据。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，根据这些附图获得其他的附图仍属于本发明的范畴。

图1是实施例1的XRD图；

图2是实施例2的XRD图；

图3实施例1的透明度和雾度图；

图4实施例2的透明度和雾度图；

图5实施例3的透明度和雾度图；