[发明专利]组合薄膜制备方法及装置

权利要求书

1.一种组合薄膜的制备方法，其特征在于，包括：

在靶台上安装至少一个靶材，在基片台上安装基片；

采用至少一个激光束轰击所述靶材以产生沉积物；

控制所述激光束在扫描路径上的扫描速率以改变所述基片不同沉积区域的沉积时间，以此控制所述靶材的对应成分在所述基片不同沉积区域上的沉积物含量，在所述基片上形成厚度沿所述基片表面任一方向变化的薄膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，控制所述激光束在扫描路径上的扫描速率以改变所述基片不同沉积区域的沉积时间的步骤之后还包括：

更换靶材，重复上述沉积过程，从而在所述基片上形成多个不同的靶材的沉积物以获得组合薄膜。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述靶台上安装有多个靶材，多个靶材分别对应所述基片的至少一部分沉积区域，相邻靶材之间通过掩模板相互隔离。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述激光束的扫描路径对应所述基片的半径或直径时，控制所述激光束在所述扫描路径上的扫描速率逐渐增大和/或逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述基片上沉积物的含量沿所述基片的半径或直径连续变化。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述基片沿中心旋转，以改变所述多个靶材对应的沉积区域。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述基片沿中心旋转的运动规律包括运动方向和运动速度，所述运动方向包括：顺时针转动、逆时针转动；所述运动速度包括：匀速转动、非匀速转动。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述激光束的扫描路径沿所述靶材表面的至少一个方向。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述激光束在所述扫描路径上的扫描速率的变化规律至少包括增大和减小中的一个。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述至少一个激光束包括多个激光束，在所述多个靶材中的相应靶材处于与所述基片相对的溅射位置的情形下，所述多个激光束交替轰击或同时轰击所述相应靶材。

11.一种组合薄膜制备设备，其特征在于，包括：

反应腔，以及位于所述反应腔内的靶台和基片台，所述靶台上用于安装靶材，所述基片台用于安装基片，

其中，通过控制激光束在扫描路径上的扫描速率以改变所述基片不同沉积区域的沉积时间，以此控制所述靶材对应成分在所述基片不同沉积区域上的沉积物含量。

12.根据权利要求11中任一项所述的组合薄膜制备设备，其特征在于，还包括：

多个激光器，位于所述反应腔外，分别用于产生轰击对应靶材的激光束；

电机组，位于所述反应腔外，与所述靶台、所述基片台和所述激光器连接，用于控制所述靶台、所述基片台和所述激光器移动。

13.根据权利要求12所述的组合薄膜制备设备，其特征在于，所述电机组用于控制所述激光器产生的激光束在所述靶材上的扫描路径以及扫描速率。

14.根据权利要求13所述的组合薄膜制备设备，其特征在于，所述电机组控制所述激光器与对应所述靶材相对移动，且所述靶材沿所述靶材中心自转以改变所述激光束在所述靶材上的光斑位置。

15.根据权利要求12所述的组合薄膜制备设备，其特征在于，所述反应腔上还包括多个窗口，所述激光器产生的激光束经由对应的所述窗口到达相应靶材。

16.根据权利要求12所述的组合薄膜制备设备，其特征在于，多个激光器交替启用或同时启用。