[发明专利]一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置在审

专利信息
申请号: 202210155681.3 申请日: 2022-02-21
公开(公告)号: CN114473816A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 林晓婷;韩联欢;詹东平 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/06;B24B47/12;B24B57/02;B24B27/00;C25F7/00;C25F3/16;C25F3/02;B25J11/00;B25J18/00;B23H5/08
代理公司: 厦门福贝知识产权代理事务所(普通合伙) 35235 代理人: 陈远洋
地址: 361000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 电解 腐蚀 机械 去除 交替 进行 电化学 机械抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,包括机械臂(1),所述机械臂(1)的输出端设置有驱动电机(12),所述驱动电机(12)的输出端设置有抛光组件(9),所述抛光组件(9)包括主轴(901)、导电导液滑环(902)和抛光头(903),所述主轴(901)的一端固定在所述驱动电机(12)的输出端,且另一端与所述抛光头(903)固定连接,所述导电导液滑环(902)的转子(9021)固定套设在所述主轴(901)上,所述抛光头(903)远离所述主轴(901)的一端开设有多个漏液孔(9031);

所述抛光头(903)的下方设置有用于安装并抛光工件(6)的抛光池(5),还包括导电模块和导液模块,所述导电模块用于将直流电源的正极和负极分别连接至所述工件(6)和所述抛光头(903),所述导液模块用于向所述抛光头(903)内通入电解抛光液,以使所述电解抛光液从所述漏液孔(9031)喷向所述工件(6)。

2.根据权利要求1所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述导电模块包括导电棒(7)、电源(3)以及连接所述电源(3)的两根电线(2),所述导电棒(7)设置在所述抛光池(5)上且与所述工件(6)连接,两根所述电线(2)分别为正极电线和负极电线,所述正极电线连接至所述导电棒(7),所述负极电线连接至所述导电导液滑环(902)的定子(9022),并通过所述导电导液滑环(902)的转子(9021)和所述主轴(901)将电流导入所述抛光头(903)。

3.根据权利要求1所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述导液模块包括电解抛光液循环过滤泵(4)和两个导液管(11),其中一个所述导液管(11)连接所述电解抛光液循环过滤泵(4)和所述导电导液滑环(902)的定子(9022),并通过所述导电导液滑环(902)的转子(9021)和所述主轴(901)将所述电解抛光液通入所述抛光头(903),另一个所述导液管(11)连接所述电解抛光液循环过滤泵(4)和所述抛光池(5)的出液口。

4.根据权利要求3所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述主轴(901)的下端开设有供所述电解抛光液流通的空腔(9011),所述抛光头(903)中空设置且上端开口设置,所述抛光头(903)的上端通过抛光头固定法兰(904)插接固定在所述空腔(9011)内。

5.根据权利要求1所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述抛光池(5)上设置有真空吸附夹具(8),所述工件(6)吸附在所述真空吸附夹具(8)上,所述导电棒(7)设置在所述真空吸附夹具(8)的一侧且一端与所述工件(6)连接。

6.根据权利要求1所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述机械臂(1)的输出端固定有电机架(13),所述驱动电机(12)固定在所述电机架(13)上,所述主轴(901)通过联轴器(10)与所述驱动电机(12)的输出端固定连接。

7.根据权利要求6所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述导电导液滑环(902)的定子(9022)上端通过定子固定法兰(905)固定在所述电机架(13)上,所述导电导液滑环(902)的转子(9021)下端通过转子固定法兰(906)固定在所述主轴(901)上。

8.根据权利要求4所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述抛光头(903)插接至所述空腔(9011)内的一端与所述主轴(901)之间设置有密封圈(908)。

9.根据权利要求1所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述抛光头(903)的下端设置有抛光垫(909)。

10.根据权利要求1所述的一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置,其特征在于,所述电解抛光液中含有磨粒。

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