[发明专利]击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构有效
申请号: | 202210148786.6 | 申请日: | 2022-02-17 |
公开(公告)号: | CN114512477B | 公开(公告)日: | 2023-09-08 |
发明(设计)人: | 聂卫东;赵克翔 | 申请(专利权)人: | 无锡市晶源微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/06 |
代理公司: | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人: | 姜有保 |
地址: | 214028 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 击穿 电压 调节 scr esd 保护 结构 | ||
1.一种击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,包括设置于同一P型衬底上的PNP管(T1)和NPN管(T2),所述PNP管(T1)基极接所述NPN管(T2)集电极,所述PNP管(T1)集电极接所述NPN管(T2)基极,所述PNP管(T1)发射极接电源阳极,所述PNP管(T1)基极和所述NPN管(T2)集电极经第一电阻(Rnwell)接电源阳极,所述NPN管(T2)发射极接电源阴极,所述NPN管(T2)基极和所述PNP管(T1)集电极经第二电阻(Rpwell)接电源阴极,其特征在于:
还包括用于调节击穿电压的稳压二极管(D3),所述稳压二极管(D3)与所述PNP管(T1)和NPN管(T2)设置于同一P型衬底上,所述稳压二极管(D3)阳极与所述NPN管(T2)基极、所述PNP管(T1)集电极连接,所述稳压二极管(D3)阴极与所述PNP管(T1)基极和所述NPN管(T2)集电极连接;
P型衬底上方设有N阱区(10)和P阱区(11),N阱区(10)内的上部设有第三N+掺杂区(02),P阱区(11)内的上部设有第二P+掺杂区(03),所述N阱区(10)作为稳压二极管(D3)的阴极,所述第三N+掺杂区(02)作为所述稳压二极管(D3)的阴极欧姆接触引出端;所述P阱区(11)作为所述稳压二极管(D3)的阳极,所述第二P+掺杂区(03)作为稳压二极管(D3)的阳极欧姆接触引出端;
通过改变第三N+掺杂区(02)与N阱区(10)端部的间距(S)调节稳压二极管(D3)的击穿电压;
N阱区(10)内的上部设有第一P+掺杂区(04)和第一N+掺杂区(05),N阱区(10)作为NPN管(T2)的集电极与PNP管(T1)的基极,NPN管(T2)的集电极与PNP管(T1)的基极相连;第一P+掺杂区(04)作为PNP管(T1)发射极的欧姆接触引出端,第一N+掺杂区(05)作为PNP管(T1)基极的欧姆接触引出端。
2.根据权利要求1所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P阱区(11)内的上部设有第二N+掺杂区(01);P阱区(11)作为PNP管(T1)的集电极与NPN管(T2)的基极,PNP管(T1)的集电极与NPN管(T2)的基极相连;第二N+掺杂区(01)作为NPN管(T2)发射极的欧姆接触引出端。
3.根据权利要求所述1的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P阱区(11)内,NPN管(T2)基极至第二P+掺杂区(03)之间的等效电阻为第一电阻(Rnwell)。
4.根据权利要求2所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:N阱区(10)内,PNP管(T1)的基极至第一N+掺杂区(05)之间的等效电阻为第二电阻(Rpwell)。
5.根据权利要求1所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P阱区(11)位于N阱区(10)左侧;第二P+掺杂区(03)位于第二N+掺杂区(01)的左侧;第三N+掺杂区(02)、第一P+掺杂区(04)、第一N+掺杂区(05)由左至右依次分布。
6.根据权利要求1或2所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P+掺杂区和N+掺杂区相互之间设有隔离区(FOX)。
7.根据权利要求6所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:隔离区(FOX)为场氧工艺,由绝缘材料SIO2填充。
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H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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