[发明专利]击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构有效

专利信息
申请号: 202210148786.6 申请日: 2022-02-17
公开(公告)号: CN114512477B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 聂卫东;赵克翔 申请(专利权)人: 无锡市晶源微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 代理人: 姜有保
地址: 214028 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 击穿 电压 调节 scr esd 保护 结构
【权利要求书】:

1.一种击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,包括设置于同一P型衬底上的PNP管(T1)和NPN管(T2),所述PNP管(T1)基极接所述NPN管(T2)集电极,所述PNP管(T1)集电极接所述NPN管(T2)基极,所述PNP管(T1)发射极接电源阳极,所述PNP管(T1)基极和所述NPN管(T2)集电极经第一电阻(Rnwell)接电源阳极,所述NPN管(T2)发射极接电源阴极,所述NPN管(T2)基极和所述PNP管(T1)集电极经第二电阻(Rpwell)接电源阴极,其特征在于:

还包括用于调节击穿电压的稳压二极管(D3),所述稳压二极管(D3)与所述PNP管(T1)和NPN管(T2)设置于同一P型衬底上,所述稳压二极管(D3)阳极与所述NPN管(T2)基极、所述PNP管(T1)集电极连接,所述稳压二极管(D3)阴极与所述PNP管(T1)基极和所述NPN管(T2)集电极连接;

P型衬底上方设有N阱区(10)和P阱区(11),N阱区(10)内的上部设有第三N+掺杂区(02),P阱区(11)内的上部设有第二P+掺杂区(03),所述N阱区(10)作为稳压二极管(D3)的阴极,所述第三N+掺杂区(02)作为所述稳压二极管(D3)的阴极欧姆接触引出端;所述P阱区(11)作为所述稳压二极管(D3)的阳极,所述第二P+掺杂区(03)作为稳压二极管(D3)的阳极欧姆接触引出端;

通过改变第三N+掺杂区(02)与N阱区(10)端部的间距(S)调节稳压二极管(D3)的击穿电压;

N阱区(10)内的上部设有第一P+掺杂区(04)和第一N+掺杂区(05),N阱区(10)作为NPN管(T2)的集电极与PNP管(T1)的基极,NPN管(T2)的集电极与PNP管(T1)的基极相连;第一P+掺杂区(04)作为PNP管(T1)发射极的欧姆接触引出端,第一N+掺杂区(05)作为PNP管(T1)基极的欧姆接触引出端。

2.根据权利要求1所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P阱区(11)内的上部设有第二N+掺杂区(01);P阱区(11)作为PNP管(T1)的集电极与NPN管(T2)的基极,PNP管(T1)的集电极与NPN管(T2)的基极相连;第二N+掺杂区(01)作为NPN管(T2)发射极的欧姆接触引出端。

3.根据权利要求所述1的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P阱区(11)内,NPN管(T2)基极至第二P+掺杂区(03)之间的等效电阻为第一电阻(Rnwell)。

4.根据权利要求2所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:N阱区(10)内,PNP管(T1)的基极至第一N+掺杂区(05)之间的等效电阻为第二电阻(Rpwell)。

5.根据权利要求1所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P阱区(11)位于N阱区(10)左侧;第二P+掺杂区(03)位于第二N+掺杂区(01)的左侧;第三N+掺杂区(02)、第一P+掺杂区(04)、第一N+掺杂区(05)由左至右依次分布。

6.根据权利要求1或2所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:P+掺杂区和N+掺杂区相互之间设有隔离区(FOX)。

7.根据权利要求6所述的击穿电压可调节的SCR型ESD保护结构,其特征在于:隔离区(FOX)为场氧工艺,由绝缘材料SIO2填充。

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