[发明专利]一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法

权利要求书

1.一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，包括对镜面铝进行抛光预处理和抛光预处理后的阳极氧化处理，所述抛光预处理为化学抛光或电化学抛光，其特征在于：抛光预处理后的镜面铝表面结构的算术平均差值不高于80 nm，最大谷深不高于700 nm，最大高度不高于1000nm，60°光泽度大于750GU；阳极氧化处理后镜面铝的60°光泽度大于600GU；化学抛光后进行的阳极氧化处理中，4A/dm²≤电流密度≤6A/dm²；电化学抛光后进行的阳极氧化处理中，1A/dm²≤电流密度≤3A/dm²。

2.根据权利要求1所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：所述抛光预处理为化学抛光，按照磷酸750~800mL/L、硫酸150~200mL/L、硝酸20~100 mL/L和硫酸铜0.5~1.5g/L的比例配制化学抛光溶液，采用体积分数为5~10%的稀硝酸用于化学抛光后清洗氧化物；化学抛光时，所配制的化学抛光溶液被加热至100℃以上后，将试片在化学抛光溶液中浸泡50s后快速转入稀硝酸中浸泡5 min，随后用去离子水冲洗干净后吹干；所述阳极氧化处理工艺为硫酸阳极氧化，所用电解液中的硫酸浓度不高于300g/L，电解液温度20~34℃，4A/dm²≤电流密度≤6A/dm²。

3.根据权利要求2所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：配制化学抛光溶液时采用的磷酸、硫酸、硝酸和硫酸铜均为分析纯。

4.根据权利要求1所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：所述的抛光预处理方式为电化学抛光，电化学抛光溶液各成分体积分数为：磷酸60~70%、铬酸3~10%、硫酸10~15%、水5~15%，具体工艺为：电解液温度80~100℃，电流密度为5~15 A/dm²，电化学抛光时间为2~6min；所述的阳极氧化处理工艺中，电解液中硫酸浓度不高于200g/L，电解液温度26~34℃，1A/dm²≤电流密度≤3A/dm²。

5.根据权利要求4所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：所述电化学抛光溶液中还包括添加剂，添加剂含量为1~5g/L，添加剂为硝酸钠、三乙醇胺、聚乙二醇中的一种或几种。

6.根据权利要求4所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：所述阳极氧化处理所用的电解液中硫酸浓度为100~150 g/L，电流密度为1.0~1.5A/dm²。

7.根据权利要求2、4、6中任一项所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：所述阳极氧化处理所用的电解液中还包括有机酸，有机酸包括草酸、羟基乙酸、柠檬酸、丙二酸、酒石酸、苹果酸中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：所述阳极氧化处理所用的电解液中，硫酸、有机酸的质量分数比例为100:1。

9.根据权利要求1~6任一项所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：所述镜面铝的合金成分为：Si≤0.3％，Fe≤0.3％，Cu≤0.1％，Mn≤0.1％，Zn≤0.1％，Mg=0.2％-2.0％，其它杂质元素总和≤0.01％，余量为Al。

10.根据权利要求1~6任一项所述的一种高光泽度阳极氧化镜面铝的表面处理方法，其特征在于：抛光预处理后的镜面铝表面结构的算术平均差值不高于45 nm，最大谷深不高于500 nm，最大高度不高于700nm， 60°光泽度大于900GU；阳极氧化处理后镜面铝的60°光泽度大于750GU。