[发明专利]数字地处理图像的方法和数字地处理多个像素的方法在审
| 申请号: | 202210121363.5 | 申请日: | 2022-02-09 |
| 公开(公告)号: | CN114913081A | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
| 发明(设计)人: | W·鲁森;A·希尔;L·拜登斯 | 申请(专利权)人: | 迈来芯科技有限公司 |
| 主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈依心;黄嵩泉 |
| 地址: | 比利时*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 数字 处理 图像 方法 像素 | ||
1.一种数字地处理使用检测器设备的感测像素的阵列捕获的图像的方法,所述方法包括:
生成关于所述感测像素的阵列的至少部分的强度分布模型;
从所述感测像素的阵列中选择像素,所述感测像素的阵列包括像素集群;
确定从所选择的像素到第一相邻像素的第一距离,并使用由所述第一距离参引的强度分布模型来计算要应用于所述第一相邻像素的第一权重;
确定从所述所选择的像素到第二相邻像素的第二距离,并使用由所述第二距离参引的所述强度分布模型来计算要应用于所述第二相邻像素的第二权重;其中
所述第一距离包括集群内距离,并且所述第二距离包括集群间距离,所述集群内距离不同于所述集群间距离;以及
将所述第一权重应用于所述第一相邻像素;以及
将所述第二权重应用于所述第二相邻像素。
2.如权利要求1所述的方法,其中:
所述强度分布模型对强度对于相对于概念像素的入射角的变化建模;并且所述方法进一步包括:
将所述第一距离转换为第一对应入射角;以及
使用所述第一对应入射角、通过模型来确定第一强度。
3.如权利要求2所述的方法,进一步包括:
将所述第二距离转换为第二对应入射角;以及
使用所述第二对应入射角、通过所述模型来确定第二强度。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述强度分布模型对强度对于相对于概念像素的入射角的变化建模。
5.如权利要求4所述的方法,其中所述入射角与距所述模型的峰值的距离线性地相关。
6.如权利要求4所述的方法,其中所述概念像素和相邻像素之间的距离为:
c×po+d×pi,
其中po是集群间距离,pi是集群内距离,并且c和d是常数。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述强度分布模型对强度对于距离的变化建模。
8.如权利要求1所述的方法,其中关于所述感测像素的阵列的所述至少部分的所述强度分布模型关于概念像素和所述概念像素周围的预定数目的像素。
9.如权利要求1所述的方法,其中所述强度分布模型包括归一化的强度值。
10.如权利要求1所述的方法,进一步包括:
使用所述第一权重和所述第二权重生成核。
11.如权利要求10所述的方法,进一步包括:
使用所述核对像素阵列中的像素去卷积。
12.如权利要求10所述的方法,进一步包括:
使用不同的权重生成另一核;以及
使用所述另一核对像素阵列中的另一像素去卷积。
13.如权利要求1所述的方法,进一步包括:
生成核的集合,所述核的集合中的每个核分别对应于所述感测像素的阵列中的像素的预定集群图案的不同像素索引,所述预定集群图案贯穿所述感测像素的阵列而重复;
单独地将所述核的集合中的每个核作为去卷积滤波器应用于所捕获的图像,以产生去卷积图像的集合,所述去卷积图像的集合分别对应于所述预定集群图案的每个像素索引;
分别从所述去卷积图像的集合中的每个去卷积图像中选择多个经处理的像素,所述多个经处理的像素中的每个经处理的像素是分别对应于所述预定集群图案的所述每个像素索引来选择的;以及
使用分别选择的多个经处理的像素构建具有多个索引的经处理的图像。
14.如权利要求13所述的方法,其中,所述多个经处理像素中的每个经处理像素包括关于所述像素阵列的各自的阵列索引。
15.如权利要求14所述的方法,进一步包括:
通过根据所述各自的阵列索引布置所述多个经处理像素中的每个经处理像素来构造所述经处理的图像。
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