[发明专利]哈特曼测量装置及其测量方法和晶圆几何参数测量装置在审
| 申请号: | 202210118747.1 | 申请日: | 2022-02-08 |
| 公开(公告)号: | CN114543695A | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
| 发明(设计)人: | 陈建强;曾安;唐寿鸿 | 申请(专利权)人: | 南京中安半导体设备有限责任公司 |
| 主分类号: | G01B11/16 | 分类号: | G01B11/16;G01B11/24 |
| 代理公司: | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人: | 杨丹 |
| 地址: | 210000 江苏省南京市自由贸易试*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 哈特曼 测量 装置 及其 测量方法 几何 参数 | ||
1.一种哈特曼测量装置,其特征在于,包括:光源准直部件和哈特曼波前传感器,其中,
所述光源准直部件用于将光源产生的光束准直以形成平行光束,并将所述平行光束直接或间接射向晶圆的待测表面;
哈特曼波前传感器用于接收从所述晶圆的待测表面反射后的检测光束,并将所述检测光束转换成多个光点,以根据所述多个光点和所述多个光点对应的正入射光点之间的偏移量计算得到所述待测表面的翘曲度和形状。
2.根据权利要求1所述的哈特曼测量装置,其特征在于,还包括:
分束镜,位于所述光源准直部件和所述晶圆之间,用于将所述平行光束引导射向所述晶圆的待测表面,所述平行光束经由所述分束镜反射后射向所述晶圆的待测表面上,其中,所述哈特曼波前传感器还用于接收经由所述晶圆的待测表面反射且经由所述分束镜透射的检测光束。
3.根据权利要求1所述的哈特曼测量装置,其特征在于,还包括:
反射镜,位于所述光源准直部件和所述晶圆之间,所述平行光束经由所述反射镜反射后射向所述晶圆的待测表面上,以使所述哈特曼波前传感器和所述晶圆均位于所述光源准直部件和所述反射镜的同一侧。
4.根据权利要求1所述的哈特曼测量装置,其特征在于,还包括:
折转镜,位于所述光源和所述光源准直部件之间,所述光束经由所述折转镜反射后射向所述光源准直部件。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的哈特曼测量装置,其特征在于,还包括:
缩束准直系统,设置在所述晶圆和所述哈特曼波前传感器之间,用于将所述检测光束进行缩束和准直后射向所述哈特曼波前传感器。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的哈特曼测量装置,其特征在于,所述光源准直部件包括离轴抛物面镜、透镜组或准直镜头。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的哈特曼测量装置,其特征在于,所述哈特曼波前传感器包括微孔阵列、成像屏和第一相机,或者所述哈特曼波前传感器包括微透镜阵列和第二相机。
8.一种哈特曼测量方法,其特征在于,包括:
利用光源准直部件将光源产生的光束准直以形成平行光束且将所述平行光束直接或间接射向晶圆的待测表面;
利用哈特曼波前传感器接收从所述晶圆的待测表面反射后的检测光束,将所述检测光束转换成多个光点,以根据所述多个光点和所述多个光点对应的正入射光点的偏移量计算得到所述待测表面的翘曲度和形状。
9.一种晶圆几何参数测量装置,其特征在于,包括:
卡盘;
如权利要求1-7中任一项所述的哈特曼测量装置,其中,所述晶圆位于所述卡盘与所述哈特曼测量装置之间。
10.一种晶圆几何参数测量装置,其特征在于,包括:
如权利要求1-7中任一项所述的哈特曼测量装置;
晶圆几何参数测量子系统,晶圆位于所述晶圆几何参数测量子系统与所述哈特曼测量装置之间。
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