[发明专利]一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备

权利要求书

1.一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，包括：

底座；

活动安装在底座上部的壳体；

设在所述壳体内的筛分腔，所述筛分腔用于将粉体进行一定目数的筛分；

设在所述壳体内的摩擦器，所述摩擦器可在壳体内转动且其下沿外端分布有若干个凸起，相邻凸起之间的区域可推动筛分腔内的粉体随摩擦器同步转动，并将聚集的粉体朝向筛分腔腔壁方向抵触并挤压；

可拆卸安装在所述壳体内的滤网，所述滤网设在筛分腔的正下方，将符合过滤目数标准的粉体从筛分腔内部滤出。

2.根据权利要求1所述的一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，所述底座和壳体螺纹连接，位于底座内侧中部设有一马达，所述摩擦器的下端与马达的输出端活动配合。

3.根据权利要求1所述的一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，所述壳体整体呈圆柱状，位于壳体的上部开设有四个圆周分布的进料孔，所述筛分腔与进料孔相通并沿壳体内部外缘方向环形分布，所述摩擦器与壳体同心设置同时转动安装在壳体的下端。

4.根据权利要求1所述的一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，所述摩擦器由一个球面朝上的半球体状的摩擦罩和设在摩擦罩下端的环形裙罩构成，所述裙罩朝向壳体内端方向呈弧面，所述凸起设有四个并均匀分布在裙罩的弧面上。

5.根据权利要求1所述的一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，所述凸起俯视呈弧形状，且凸起中部朝向两侧方向厚度逐渐变薄，所述壳体内侧端面上分布有四个弧形块，四个弧形块圆周分布且弧面朝向凸起一侧。

6.根据权利要求5所述的一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，所述壳体还包括有：

设在壳体内侧下端的凸台；

所述凸台沿壳体内侧外缘方向设置，且朝向筛分腔一侧端面呈弧面，所述凸台位于凸起的下方。

7.根据权利要求4所述的一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，还包括有：

安装在所述壳体内的扣罩，所述扣罩扣在摩擦罩的上端；

安装在所述扣罩内壁上的气囊，所述气囊设有六个并等距分布；

安装在每个所述气囊下端的气胀管，所述气胀管的出气端朝向筛分腔；

设在所述摩擦罩外端面上的抵块，所述抵块等距分布并可间歇性的挤压气囊。

8.根据权利要求7所述的一种控制纳米粉体分散均匀的抽样检测设备，其特征在于，所述抵块整体呈弧形状且其外端与气囊交错设置并相互配合，随着摩擦器的转动而间歇性的让气胀管朝向筛分腔腔内吹气将粉体吹散。