[发明专利]一种定位吸附装置

权利要求书

1.一种定位吸附装置，其特征在于，包括：治具主体和支撑板；

所述治具主体包括第一表面和第二表面；所述第一表面与所述第二表面相对设置；

所述第一表面包括多个待安装区域，所述多个待安装区域中每个待安装区域设有多个吸附装置；

所述第二表面设有多个容置腔；所述多个待安装区域中待安装区域在所述第一表面的位置与所述多个容置腔中容置腔在所述第二表面的位置一一对应重合，所述吸附装置与对应的容置腔连通；

所述治具主体的所述第二表面与所述支撑板连接，使得所述多个容置腔与所述支撑板形成多个密闭空间，所述多个密闭空间中相邻两个密闭空间连通。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述每个待安装区域设有安装槽；

所述安装槽自所述第一表面向所述第二表面凹陷；

所述每个待安装区域对应的安装槽内设有所述多个吸附装置。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述多个待安装区域中每个待安装区域设置有多个吸盘；

所述多个吸盘均匀分布在所述每个待安装区域内。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述每个待安装区域对应的安装槽之间的平面高度差在预设高度差区间内；

所述预设高度差区间的设定范围为[0mm,0.01mm]。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述多个容置腔中相邻两个容置腔之间设有加强筋；

所述加强筋上开设有导通孔，所述导通孔使得所述相邻两个密闭空间连通。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述加强筋上开设有多个定位孔；

所述支撑板上设有多个定位销；

所述多个定位销中定位销在所述支撑板上的位置与所述多个定位孔中定位孔在所述治具主体上的位置一一对应重合。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

基座，所述支撑板设置在所述基座上，所述支撑板与所述基座间隔设置。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

多个支撑柱，所述多个支撑柱中每个支撑柱的一端与所述支撑板连接，所述多个支撑柱中每个支撑柱的另一端与所述基座连接。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

多个调节机构，所述多个调节机构中的调节机构与所述多个支撑柱中的支撑柱一一对应设置；

所述调节机构的一端与所述支撑板连接，所述调节机构的另一端与所述支撑柱连接。

10.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

负压检测装置，所述负压检测装置设置在所述基座上；

所述负压检测装置用于检测所述密闭空间对应的负压信息。