[发明专利]一种彩膜基板、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202210097293.4 申请日: 2022-01-26
公开(公告)号: CN114708803A 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 侯鹏;夏维;罗利辉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G09F9/33 分类号: G09F9/33;H01L27/32
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 彩膜基板 显示 面板 显示装置
【说明书】:

本申请公开了一种彩膜基板、显示面板及显示装置,包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的黑矩阵,设置在所述衬底基板一侧的红外传感器元件,其中,所述红外传感器元件在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影范围内;所述黑矩阵上设置有开孔,所述开孔在所述衬底基板上的正投影位于所述红外传感器元件在所述衬底基板上的正投影范围内;所述黑矩阵上设置有复合色阻层,所述复合色阻层至少填充所述开孔;所述复合色阻层用于阻挡可见光入射所述衬底基板且用于允许红外光入射所述红外传感器元件;所述复合色阻层包括层叠设置的红色色阻层和蓝色色阻层。

技术领域

本申请一般涉及显示技术领域,具体涉及一种彩膜基板、显示面 板及显示装置。

背景技术

随着人们对面板更高用户体验的追求,具有高“屏占比”的显示 屏越来越受消费者的青睐。全面屏的实现其中一项重要关键技术是如 何实现在不额外设置指纹辨识组件的前提下达到全显示指纹识别。而 目前行业中,大多数都是采用屏下指纹识别模组来代替以前需要放置 指纹识别模组才能完成的识别功能。因此,使用屏下指纹识别模组来 达到全面屏显示是一种可行的方案。

OLED显示屏上一般需要设置有偏光片,用于降低外界光入射到 OLED显示屏内的一些金属电极材料后形成的反射。但偏光片也会对 OLED显示屏自身发出的光进行过滤,从而影响OLED显示屏所能达 到的亮度。

然而现有OLED显示屏内采用的是黑矩阵取代偏光片,通过将黑 矩阵设置在与OLED显示屏内的金属电极材料对应的区域,避免外界 光照射到这些金属电极材料上引起反射。但是,对于这类的OLED显 示屏,由于增加了黑矩阵和其他结构,会降低OLED显示屏的所能透 光的区域,原本能够透光的区域会变成无法透光的区域,从而会影响 到光学屏下指纹功能的实现。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种彩膜基板、显 示面板及显示装置,可以以改善上述现有OLED显示屏由于黑矩阵结 构影响到光学屏下指纹功能的实现的技术问题。

第一方面,本申请提供了一种彩膜基板,包括衬底基板、设置在 所述衬底基板上的黑矩阵,设置在所述衬底基板一侧的红外传感器元 件,其中,

所述红外传感器元件在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵 在所述衬底基板上的正投影范围内;

所述黑矩阵上设置有开孔,所述开孔在所述衬底基板上的正投影 位于所述红外传感器元件在所述衬底基板上的正投影范围内;

所述黑矩阵上设置有复合色阻层,所述复合色阻层至少填充所述 开孔;所述复合色阻层用于阻挡可见光入射所述衬底基板且用于允许 红外光入射所述红外传感器元件;所述复合色阻层包括层叠设置的红 色色阻层和蓝色色阻层。

可选地,所述红色色阻层设置在靠近所述黑矩阵的一侧,所述蓝 色色阻层设置在所述红色色阻层远离所述黑矩阵的一侧。

可选地,所述蓝色色阻层设置在靠近所述黑矩阵的一侧,所述红 色色阻层设置在所述蓝色色阻层远离所述黑矩阵的一侧。

可选地,所述黑矩阵与所述衬底基板之间设置有第一透明层,所 述透明层对应所述开孔的位置设置有通孔,所述复合色阻层中靠近所 述黑矩阵的一层自所述开孔延伸至所述通孔。

可选地,所述衬底基板上还设置有彩膜层,所述彩膜层包括多个 彩色色阻块,所述彩色色阻块设置在所述黑矩阵限定出的像素开口中, 所述彩色色阻块包括红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块。

可选地,所述彩膜层与所述黑矩阵同层设置。

可选地,所述彩膜层包括与所述黑矩阵同层设置的第一彩膜层以 及设置在所述第一彩膜层远离所述衬底基板一侧的第二彩膜层,

所述第一彩膜层上的彩色色阻块包括红色色阻块和蓝色色阻块中 的一种;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210097293.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top