[发明专利]一种高性能亲锂性人工界面层、制备方法及其应用

权利要求书

1.一种高性能亲锂性人工界面层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将金属基底箔材剪成金属锂片尺寸的大小，然后放入有机溶剂中进行超声脱脂洗涤，再用去离子水和无水乙醇清洗，干燥；

(2)将干燥后得到的金属基底箔材浸入到0.001～0.1mol/L的溶液P中，利用化学置换或原位生长原理，经反应生长一定的时间后取出，用去离子水和无水乙醇清洗；

(3)将步骤(2)的金属基底箔材干燥，得到干燥后的表面生长有功能保护层的金属基底箔材；

(4)将干燥后的表面生长有功能保护层的金属基底箔材与金属锂片或锂箔堆叠，然后通过辊压的方式复合，再将通过辊压表面复合有功能保护层的金属锂片或锂箔从金属基底箔材上剥离，得到高性能亲锂性人工界面层。

2.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，步骤(2)所述溶液P包括AgNO₃、Al(NO₃)₃、HNO₃或HF水溶液。

3.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，步骤(2)所述一定的时间为3min～10min。

4.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，步骤(3)所述干燥条件为：先在60℃～80℃干燥1～2h，再在50℃～60℃干燥6～12h。

5.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，步骤(4)所述堆叠辊压环境在水和氧值都小于0.5ppm的手套箱内进行。

6.一种权利要求1～5任一项所述制备方法制备得到的高性能亲锂性人工界面层。

7.权利要求6所述高性能亲锂性人工界面层在制备锂金属负极中的应用。