[发明专利]超级电容3D集流体的卷对卷纳米压印制造方法有效

专利信息
申请号: 202210052838.X 申请日: 2022-01-18
公开(公告)号: CN114334478B 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 李祥明;邵金友;郑钦文;陈小亮;田洪淼;王春慧;李聪明;武莉峰 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01G11/70 分类号: H01G11/70;H01G11/84
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 弋才富
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 超级 电容 流体 纳米 压印 制造 方法
【权利要求书】:

1.超级电容3D集流体的卷对卷纳米压印制造方法,其特征在于,具体操作步骤如下:

步骤S1:在辊压机的上光辊表面贴合纳米压印模板或在上光辊表面雕刻出微纳压印结构,形成压印辊;

步骤S2:将原始电极A在辊压力下,通过带有一个压印辊和一个光辊的辊压机,原始电极A的金属集流体面正对压印模板或微纳压印结构,得到具有比原始电极A厚度高的微纳压印结构的3D集流体的电极B;

步骤S3:将电极B通过带有2个光辊的辊压机,得到与电极A相比厚度相差±100μm的带有压平后的3D集流体的电极C。

2.根据权利要求1所述的超级电容3D集流体的卷对卷纳米压印制造方法,其特征在于,所述的步骤S1中的纳米压印模板包括不同目数的不锈钢丝网、铜丝网、镍丝网或钛丝网。

3.根据权利要求1所述的超级电容3D集流体的卷对卷纳米压印制造方法,其特征在于,所述的步骤S2中的辊压力的范围为5~150N/cm。

4.根据权利要求1所述的超级电容3D集流体的卷对卷纳米压印制造方法,其特征在于,所述的步骤S2中的电极B的微纳压印结构高度为5~500μm。

5.根据权利要求1所述的超级电容3D集流体的卷对卷纳米压印制造方法,其特征在于,所述的步骤S2中的电极B的厚度与电极A相差5~500μm。

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