[发明专利]清洁基站、清洁设备及清洁系统

权利要求书

1.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁基站，设有污水槽；

清洁设备，所述清洁设备能够对接至所述清洁基站，在对接状态下，所述清洁设备的清洁部件位于所述污水槽；在所述污水槽边缘处，所述清洁设备与所述清洁基站之间具有间隙；

遮挡装置，活动设于所述清洁基站和所述清洁设备的至少一个，且所述遮挡装置能够在第一状态和第二状态下切换；

在所述第一状态下，所述遮挡装置位于遮挡位置，以阻挡所述污水槽内的液体从所述间隙溅出至所述清洁基站；在所述第二状态下，所述遮挡装置位于避让位置，以露出所述间隙。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述遮挡装置包括：

固定部，固定于所述清洁设备和所述清洁基站的其中一个上；

遮挡部，一端与所述固定部连接，另一端用于相对于所述固定部运动，以在所述第一状态和所述第二状态切换；

驱动部，与所述遮挡部连接，用于驱动所述遮挡部运动。

3.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述遮挡部为柔性件；所述柔性件展开时，所述遮挡装置处于所述第一状态；所述柔性件收拢时，所述遮挡装置处于所述第二状态。

4.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述遮挡部为刚性件；所述清洁基站与所述清洁设备的至少一个上具有供所述刚性件缩回的容纳槽，所述刚性件与所述容纳槽的槽口密封接触；

所述刚性件能够伸出所述容纳槽，以使所述遮挡装置处于所述第一状态；

所述刚性件能够缩回所述容纳槽，以使所述遮挡装置处于所述第二状态。

5.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述遮挡部的运动方向垂直于所述清洁设备对接于所述清洁基站的对接方向，且所述遮挡部沿所述清洁基站的高度方向运动；

或者，所述遮挡部的运动方向垂直于所述清洁设备对接于所述清洁基站的对接方向，且所述遮挡部沿所述清洁基站的宽度方向运动。

6.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁基站还包括支撑表面，所述支撑表面用于支撑所述清洁设备的行走轮，在所述对接状态下，所述支撑表面与所述清洁设备的主机之间形成所述间隙。

7.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述污水槽的第一槽壁连接至所述支撑表面；所述固定部固定于所述污水槽的槽底或所述第一槽壁，且所述遮挡部与所述第一槽壁贴合接触。

8.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，还包括：

检测装置，用于检测所述清洁设备是否相对于所述清洁基站对接到位；

控制装置，与所述驱动部连接，用于当所述检测装置检测到所述清洁设备已对接至所述清洁基站的预设对接位置时，控制所述驱动部驱动所述遮挡装置处于第一状态。

9.根据权利要求8所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁基站与所述清洁设备通信连接；

在所述控制装置接收到所述清洁设备脱离所述清洁基站的指令时，所述控制装置控制所述驱动部驱动所述遮挡装置切换至所述第二状态；

或者，在所述控制装置接收到所述清洁设备已经自清洁完毕的指令时，所述控制装置控制所述驱动部驱动所述遮挡装置切换至所述第二状态。

10.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁基站，设有用于清洁的污水槽；

清洁设备，具有清洁部件，所述清洁设备移动并靠近所述清洁基站，使所述清洁部件处在所述污水槽中时，所述清洁设备与所述清洁基站之间形成有间隙；

遮挡装置，活动设于所述清洁基站和所述清洁设备的至少一个，且所述遮挡装置能够遮挡所述间隙。