[发明专利]一种陶瓷覆铜基板及其激光加工工艺

权利要求书

1.一种陶瓷覆铜基板的激光加工工艺，其特征在于：具体加工步骤如下：

步骤一：按照重量份比，称取陶瓷覆铜基片、表面改性剂中的硝酸锌、硝酸银、纳米氧化铟锡、硝酸铝、氢氧化钠；所述表面改性剂与陶瓷覆铜基板的重量份比为：1.20～1.60∶98.40～98.80，所述表面改性剂按照重量百分比计算包括：19.60～20.80％的硝酸锌、19.40～20.40％的硝酸银、28.20～29.40％的纳米氧化铟锡、19.40～20.40％的硝酸铝，其余为氢氧化钠；

步骤二：将步骤一中表面改性剂的硝酸锌、硝酸银、纳米氧化铟锡、硝酸铝、氢氧化钠加入到去离子水中，搅拌均匀，调节pH至8～10，得到表面改性液；

步骤三：将步骤一中陶瓷覆铜基片浸没到步骤二中制得的表面改性液中，进行水浴超声处理30～40分钟，得到表面改性的陶瓷覆铜基片；在步骤三中，超声频率为29～35KHz，超声功率为600～800W，水浴温度为60～80℃；

步骤四：将步骤三中制得的表面改性的陶瓷覆铜基片，使用氢气进行等离子清洗加工处理6～8分钟，得到半成品陶瓷覆铜基板；在步骤四中，等离子清洗的功率为185～195W，工作距离为8～10mm，气体流量为165～175ml/min；

步骤五：将步骤四中制得的半成品陶瓷覆铜基板，进行激光表面蚀刻加工处理，得到陶瓷覆铜基板；在步骤五中，激光器功率为：25～35W；激光频率为：400～800KHz，脉宽为：160～180ps；激光器扫描速度为：400～800mm/s。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜基板的激光加工工艺，其特征在于：在步骤五中，激光器的类型为：皮秒、纳秒、阿秒中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜基板的激光加工工艺，其特征在于：在步骤五中，激光器的光源为：紫外、绿光、红外中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜基板的激光加工工艺，其特征在于：在步骤五中，激光器的扫描振镜为：3D扫描振镜、平面扫描振镜中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜基板的激光加工工艺，其特征在于：在步骤五中，激光器的场镜为：远心场镜、平面场镜中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜基板的激光加工工艺，其特征在于：所述表面改性剂与陶瓷覆铜基板的重量份比为：1.40∶98.60；所述表面改性剂按照重量百分比计算包括：20.20％的硝酸锌、19.90％的硝酸银、28.80％的纳米氧化铟锡、19.90％的硝酸铝、11.20％的氢氧化钠。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的一种陶瓷覆铜基板的激光加工工艺制备的陶瓷覆铜基板。