[发明专利]纳米压印胶的雾化喷涂结构

权利要求书

1.一种纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，包括：

腔体；

雾化喷淋装置，设置在所述腔体的顶部，用于喷射雾化后的压印胶流体；

样品夹具，设置在所述雾化喷淋装置的下方，该样品夹具用于固定待喷涂压印胶的样品；

超音速喷管阵列，设置在所述雾化喷淋装置和所述样品夹具之间，该超音速喷管阵列用于喷射高速气流；以及

支撑杆，一端固定至所述样品夹具，所述支撑杆能够被驱动旋转，以带动所述样品夹具旋转；

其中所述雾化喷涂结构整体与水平方向呈第一角度倾斜设置，从而所述样品在喷胶过程中能够旋转，且在喷胶过程中样品的表面凹陷处的内部气体时而朝下，时而朝上。

2.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，还包括导轨，设置在所述腔体的底部，所述支撑杆的另一端设于所述导轨上，且该支撑杆能够沿着导轨滑动。

3.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述超音速喷管阵列包括多根喷管组成的同心圆环形结构，每根喷管上沿着该喷管的周向方向布置有多个喷口。

4.如权利要求3所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，每个喷口沿着同一方向倾斜，该倾斜角度介于9°~11°之间。

5.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述腔体为密封腔体，且腔体内的气压小于大气压。

6.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述超音速喷管阵列设有多个高速气体入口，分别设置在该阵列的两端。

7.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述第一角度介于30°~45°之间。

8.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，还包括设置在腔体底部的出气口。

9.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，还包括喷淋头进口，设置在所述雾化喷淋装置的顶部。