[发明专利]一种按摩结构及足浴器

权利要求书

1.一种按摩结构，其特征在于，所述按摩结构包括：

驱动装置，包括驱动件和与所述驱动件连接的移动件，所述移动件用于响应所述驱动件的驱动在多个工作位置之间进行切换；

按摩基板，所述按摩基板设有多个按摩区域，所述按摩区域设置有按摩件，且所述按摩区域与所述工作位置一一对应；

其中，所述按摩件与所述按摩基板活动连接；且在所述移动件移动至与其所在按摩区域相对的工作位置时，所述按摩件能够响应所述移动件的控制相对所述按摩基板进行移动，以通过调整所述按摩件相对于所述按摩基板的凸出高度实现对人体的按摩。

2.根据权利要求1所述的按摩结构，其特征在于，所述按摩基板具有相对的按摩侧和背侧；其中，

所述移动件活动设置于所述按摩基板的背侧；

所述按摩件能够相对所述按摩侧凸出。

3.根据权利要求2所述的按摩结构，其特征在于，

所述移动件包括移动杆和磁吸主动部，所述移动杆与所述驱动件连接，所述磁吸主动部安装于所述移动杆；

所述按摩件包括磁吸配合部，在所述移动件移动至与其所在按摩区域相对的工作位置时，所述磁吸配合部能够在所述磁吸主动部的磁力作用下向靠近或远离所述磁吸主动部的方向运动，以调整所述按摩件相对所述按摩侧的凸出高度。

4.根据权利要求3所述的按摩结构，其特征在于，所述按摩件还包括与所述磁吸配合部连接的弹性部；其中，

在所述移动件移动至与其所在按摩区域相对的工作位置时，所述按摩件的弹性部能够在所述磁吸配合部与所述磁吸主动部之间的距离发生改变时发生弹性形变；

在所述移动件从与其所在按摩区域相对的工作位置移出时，所述按摩件的弹性部能够恢复形变，并带动所述磁吸配合部复位。

5.根据权利要求4所述的按摩结构，其特征在于，所述弹性部设于所述磁吸配合部远离或靠近所述磁吸主动部的一侧。

6.根据权利要求4所述的按摩结构，其特征在于，所述按摩件还包括柔性保护套，所述弹性部及所述磁吸配合部位于所述柔性保护套内。

7.根据权利要求3所述的按摩结构，其特征在于，所述按摩结构还包括控制器；

所述磁吸主动部为电磁器件，所述电磁器件与所述控制器通信连接，所述电磁器件能够响应所述控制器在不同开启时间下工作，进而控制所述磁吸配合部的震动幅度，所述电磁器件能够响应所述控制器在不同的开启频率下工作，进而控制所述磁吸配合部的震动频率。

8.根据权利要求3所述的按摩结构，其特征在于，所述多个按摩区域在第一方向上间隔排布，所述按摩区域包括多个在第二方向上间隔排布的所述按摩件，所述第二方向与所述第一方向相交。

9.根据权利要求8所述的按摩结构，其特征在于，

所述移动杆设置有多个在所述第一方向上间隔排布的所述磁吸主动部，所述磁吸主动部能够与所述按摩件一一对应，且多个所述磁吸主动部之间相互独立控制；或

所述移动杆设置有在所述第一方向上延伸的所述磁吸主动部，所述磁吸主动部能够与所述按摩区域的所有所述按摩件相对应。

10.一种足浴器，其特征在于，所述足浴器包括足浴腔及如权利要求1-9任一项所述的按摩结构。