[发明专利]一种晶圆片表面加工用抛光机有效

专利信息
申请号: 202210029179.8 申请日: 2022-01-12
公开(公告)号: CN114227421B 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 沈丹丹;陈守俊;何建军;刘京明 申请(专利权)人: 江苏益芯半导体有限公司
主分类号: B24B7/22 分类号: B24B7/22;B24B29/02;B24B41/06;B24B27/00
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 何思理
地址: 226500 江苏省南通市如皋市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶圆片 表面 工用 抛光机
【权利要求书】:

1.一种晶圆片表面加工用抛光机,其特征在于,包括:

研磨底座(1),所述研磨底座(1)上转动安装有下磨盘(2);

顶盖(3),所述顶盖(3)通过升降装置(4)设置在所述研磨底座(1)的正上方,所述顶盖(3)的底部安装有上磨盘(5),所述下磨盘(2)与所述上磨盘(5)相互平行且同轴,所述顶盖(3)上安装有用于驱动所述上磨盘(5)转动的上旋转驱动机构(6);

下旋转驱动机构(7),所述下旋转驱动机构(7)具有转动安装在所述下磨盘(2)的轴心处的中心齿轮(701),所述中心齿轮(701)上套设安装有与之相啮合的晶圆带动盘(8),所述晶圆带动盘(8)开设有贯穿顶部和底部的多个行星分布孔(801),所述行星分布孔(801)用于放入待抛光的晶圆片,所述晶圆带动盘(8)带动多个所述行星分布孔(801)中的晶圆片绕所述中心齿轮(701)转动;

中心磨盘(10),所述晶圆带动盘(8)设置有多个,相邻所述晶圆带动盘(8)之间均设置有与所述晶圆带动盘(8)间隙配合的所述中心磨盘(10),所述中心磨盘(10)与所述晶圆带动盘(8)同轴设置,且所述中心磨盘(10)通过联动机构(9)与所述顶盖(3)连接并联动,所述下磨盘(2)、所述中心磨盘(10)和所述上磨盘(5)的旋转方向与所述晶圆带动盘(8)的旋转方向相反;

所述联动机构(9)包括联动臂(901)和夹持定位组件(902),所述顶盖(3)上可拆卸安装有呈周向等间隔分布的多个所述联动臂(901),所述夹持定位组件(902)安装在所述联动臂(901)的内侧壁上,且所述夹持定位组件(902)与所述中心磨盘(10)一一对应的设置,同个所述联动臂(901)上的多个所述夹持定位组件(902)在竖直方向上间隔分布,多个所述联动臂(901)通过所述夹持定位组件(902)将位于中心的所述中心磨盘(10)夹持固定,以使所述中心磨盘(10)与所述顶盖(3)联动;

所述中心磨盘(10)的外径大于所述晶圆带动盘(8)、所述上磨盘(5)及所述下磨盘(2)的外径,所述研磨底座(1)的侧壁上安装有环形支座(16),多个所述联动臂(901)均竖直滑动安装在所述环形支座(16)上,且所述顶盖(3)上安装有对应多个所述联动臂(901)的多个夹持器(17),所述顶盖(3)通过所述夹持器(17)对所述联动臂(901)进行夹持及释放。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面加工用抛光机,其特征在于,所述晶圆带动盘(8)设置有两个,所述中心磨盘(10)位于两个所述晶圆带动盘(8)之间,且所述中心磨盘(10)、所述下磨盘(2)和所述上磨盘(5)均与所述晶圆带动盘(8)间隙配合,下方所述中心磨盘(10)固定安装在所述中心齿轮(701)上,所述中心齿轮(701)上套设安装有间距调节套筒(11),上方所述晶圆带动盘(8)与所述中心齿轮(701)轴向滑动配合,且上方所述晶圆带动盘(8)通过所述间距调节套筒(11)支撑在下方所述晶圆带动盘(8)上,所述中心磨盘(10)的轴心处开设有圆孔,所述间距调节套筒(11)贯穿所述圆孔并与所述圆孔的孔壁间隔设置。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面加工用抛光机,其特征在于,所述夹持定位组件(902)包括支撑凸台(9021)、卡块(9022)和夹持动力件(9023),所述支撑凸台(9021)安装在所述联动臂(901)的内侧壁上,所述支撑凸台(9021)具有水平的用于支撑所述中心磨盘(10)的承托平面(12),所述支撑凸台(9021)的靠近所述联动臂(901)的一侧通过所述夹持动力件(9023)安装有在水平方向往复运动的所述卡块(9022),多个所述联动臂(901)上同层的多个所述卡块(9022)在所述夹持动力件(9023)驱动下对放置在多个所述承托平面(12)的所述中心磨盘(10)向中心进行夹持定位。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆片表面加工用抛光机,其特征在于,所述中心磨盘(10)的侧壁开设有与多个所述卡块(9022)一一对应的周向定位槽(13),所述周向定位槽(13)轴向贯穿所述中心磨盘(10)。

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