[发明专利]用于校准颗粒传感器的方法、颗粒传感器以及具有颗粒传感器的设备在审
申请号: | 202180085358.7 | 申请日: | 2021-12-15 |
公开(公告)号: | CN116601480A | 公开(公告)日: | 2023-08-15 |
发明(设计)人: | M·弗奇;S·亨格斯巴赫;J·格里梅尔;H·哈特曼 | 申请(专利权)人: | 科安德有限公司 |
主分类号: | G01N15/14 | 分类号: | G01N15/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 韩长永 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 校准 颗粒 传感器 方法 以及 具有 设备 | ||
1.一种用于校准颗粒传感器(2)的方法,其包括:
将光束、特别是激光束(8)指向、特别是聚焦到校准平面(KE)上以在所述校准平面(KE)中产生校准强度分布(10)、特别是校准焦点,其中,校准盘(1)布置在所述校准平面(KE)中,在所述校准盘上形成用于调制所述光束、特别是所述激光束(8)的强度(I)的对比区域(4);
使所述校准盘(1)和/或所述校准强度分布(10)在所述校准平面(KE)中运动;
检测所述光束、特别是所述激光束(8)在通过所述校准平面(KE)之后的至少一个强度信号(IT;IR);
以及
通过评估所述至少一个强度信号(IT;IR)来校准所述颗粒传感器(2)。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述校准盘(1)布置在测量体积(11)中的校准平面(KE)中,在所述颗粒传感器(2)的测量运行中颗粒(P)运动通过所述测量体积。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,将所述校准平面(KE)中的校准强度分布(10)和测量平面(ME)中的测量强度分布(16)、特别是测量焦点成像到彼此上,其中,所述测量平面(ME)布置在测量体积(11)中,在所述颗粒传感器(2)的测量运行中所述颗粒(P)运动通过所述测量体积。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述校准盘(1)布置在与所述测量体积(11)分离的壳体(23)中。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述校准盘(1)上的对比区域(4)具有不同的表面积。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述对比区域由基底(3)的表面、特别是晶片的表面上的微结构(4)形成。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其中,所述对比区域由校准颗粒(4)形成,所述校准颗粒(4)优选地具有至少两组(4a-4c)带有不同的光学特性的校准颗粒(4),所述至少两组特别是由不同的材料构成。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,将所述校准颗粒(4)统计分布地施加在基底(3)的表面、特别是晶片的表面上,和/或将所述校准颗粒(4)通过自结构化形成在所述基底(3)的表面上。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述校准盘(1)在所述校准平面(KE)中运动时自动地旋转和/或自动地移动。
10.一种颗粒传感器(2),其包括:
发射器(5),所述发射器具有用于产生光束、特别是激光束(8)的光源、特别是激光源(7);
光学器件(9;9,17),所述光学器件用于将所述光束、特别是所述激光束(8)指向、特别是聚焦到校准平面(KE)上以在所述校准平面(KE)中产生校准强度分布(10)、特别是校准焦点,其中,校准盘(1)布置在所述校准平面(KE)中,在所述校准盘上形成用于调制所述光束、特别是所述激光束(8)的强度(I)的对比区域(4);
运动装置(14a;14b),用于使所述校准盘(1)和/或所述校准强度分布(10)在所述校准平面(KE)中运动;
接收器(6),所述接收器具有探测器(12),所述探测器用于检测所述光束、特别是所述激光束(8)在通过所述校准平面(KE)之后的至少一个强度信号(IT,IR);以及
评估装置(13),所述评估装置用于评估所述至少一个强度信号(IT,IR)以在所述颗粒传感器(2)的校准运行中校准所述颗粒传感器(2)。
11.根据权利要求10所述的颗粒传感器,其中,所述校准盘(1)布置在校准平面(KE)中,所述校准平面位于测量体积(11)中,在所述颗粒传感器(2)的测量运行中颗粒(P)运动通过所述测量体积。
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