[发明专利]高精度温度补偿压阻式位置感测系统

说明书

一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，用于使所述反射镜移位的至少一个压电致动器，其中，所述至少一个压电致动器被连接至所述衬底。所述微反射镜阵列还包括将所述反射镜连接至所述至少一个压电致动器的一个或更多个导柱。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查和/或量测设备中。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年11月30日递交的欧洲申请20210516.9和于2020年12月14日递交的欧洲申请20213650.3的优先权，并且这些欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种微机电系统、一种包括作为微反射镜阵列的这种微机电系统的可编程照射器、一种包括这种可编程照射器的光刻设备、一种包括这种可编程照射器的检查和/或量测设备、以及一种用于形成这种微机电系统的方法。

背景技术

光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置处的图案投影至设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。如在本文中所使用的术语“图案形成装置”应广义地解释为是指可以用于向入射辐射束赋予经图案化的横截面的装置，所述经图案化的横截面对应于待在衬底的目标部分中产生的图案；在这种情境下，也可以使用术语“光阀”。通常，图案将对应于在目标部分中产生的装置(诸如集成电路或其它装置)中的特定功能层。这样的图案形成装置的示例包括：

-掩模(或掩模版)。掩模的概念在光刻中是众所周知的，并且其包括诸如二元、交替相移和衰减相移的掩模类型，以及各种混合式掩模类型。这种掩模在辐射束中的放置会根据所述掩模上的图案而导致照射到所述掩模上的辐射选择性地透射(在透射型掩模的情况下)或反射(在反射型掩模的情况下)。掩模可以由诸如掩模台或掩模夹具之类的支撑结构支撑。这种支撑结构确保可以将掩模保持在入射辐射束中的期望的位置处，并且其可以在需要时相对于束移动；

-可编程反射镜阵列。这种装置的一个示例是具有黏弹性控制层和反射表面的矩阵可寻址表面。这种装置所隐含的基本原理为(例如)：反射表面的寻址区域将入射光反射为衍射光，而未寻址区域将入射光反射为非衍射光。使用适当滤波器，可以从反射束滤出非衍射光，从而仅留下衍射光；以这种方式，束变得根据矩阵可寻址表面的寻址图案而被图案化。可编程反射镜阵列的替代实施例使用微小反射镜的矩阵布置，可以例如通过施加合适的区域化电场或通过使用静电或压电致动装置而使所述反射镜中的每个围绕轴线单独的倾斜。再次，所述反射镜是矩阵可寻址的，使得经寻址反射镜将使入射辐射束在与未寻址反射镜不同的方向上反射；以这种方式，反射束根据矩阵可寻址反射镜的寻址图案来图案化反射束。可以使用合适的电子装置来执行所需的矩阵寻址。在上文中所描述的两种情形中，图案化装置可以包括一个或更多个可编程反射镜阵列。可以例如从以引用方式并入本文中的美国专利US 5,296,891和US 5,523,193以及PCT专利申请WO 98/38597和WO 98/33096搜集到关于在这里提及的反射镜阵列的更多信息。这样的可编程反射镜阵列可以由可以根据需要而是固定的或可移动的支撑结构(诸如(例如)框架或台)支撑；以及

-可编程LCD阵列。全文以引用方式并入本文中的美国专利US 5,229,872中给出这样的构造的示例。这样的可编程LCD阵列可以由可以根据需要而是固定的或可移动的支撑结构(诸如(例如)框架或台)支撑。

出于简单起见，本文的其余部分在某些部位处可特定指向涉及掩模和掩模台的示例；然而，在这些情况下所论述的通用原理应在如上文所阐述的图案化装置的较宽泛情境下看待。