[发明专利]将3D层析成像中的对准信息从第一组图像转移到第二组图像在审

专利信息
申请号: 202180073856.X 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN116438571A 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: T·柯布;A·巴克斯鲍姆;E·福卡;J·T·纽曼;A·阿维沙伊;D·科洛奇科夫 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G06T7/38 分类号: G06T7/38
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 层析 成像 中的 对准 信息 一组 图像 转移 第二
【权利要求书】:

1.一种将3D层析成像中的对准信息从第一组图像转移到第二组图像的方法,包括以下步骤:

在第一成像模式下获得第一组横截面图像,所述第一横截面图像是在时间Tai拍摄的;

在第二成像模式下获得第二组横截面图像,所述第二横截面图像是在时间Tbj拍摄的,时间Tbj不同于时间Tai;

其中,获得所述第一组横截面图像和第二组横截面图像包括随后去除样品的横截面表面层,特别是使用聚焦离子束,以使新横截面能够用于成像,并且在所述第一成像模式或所述第二成像模式下,特别是使用带电粒子束,对所述样品的所述新横截面进行成像,

其中,在获得所述第一组横截面图像和第二组横截面图像期间,在所述第一成像模式和所述第二成像模式之间进行切换;

确定包括在第一组的横截面图像中的对准信息;以及

将所述对准信息从第一组的横截面图像转移到第二组的横截面图像,

其中,转移所述对准信息包括所述对准信息的时间相关插值。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一组的横截面图像具有第一成像像素尺寸,并且其中,所述第二组的横截面图像具有不同于所述第一成像像素尺寸的第二成像像素尺寸。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第一成像像素尺寸是所述第二成像像素尺寸的至少两倍。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,在获得每个横截面图像之后,严格交替地执行所述第一成像模式和第二成像模式之间的切换。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,确定所述对准信息包括确定基准的位置。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,获得所述第一组横截面图像和第二组横截面图像是在连续铣削模式下进行的。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,转移所述对准信息包括基于获得所述第一组的横截面图像时的时间点Tai对获得所述第二组的横截面图像时的时间点Tbj进行所述基准的位置的时间相关插值。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述时间相关插值是线性插值。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,拍摄两个横截面图像之间的时间间隔是恒定的。

10.根据权利要求8所述的方法,其中,所述对准信息是横向对准信息和/或深度对准信息。

11.根据权利要求5所述的方法,其中,获得所述第一组横截面图像和第二组横截面图像是在铣削停止图像模式下进行的。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,转移所述对准信息包括基于获得所述第一组的横截面图像时的时间点Tai对获得所述第二组的横截面图像时的时间点Tbj进行所述基准的位置的时间相关插值。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述时间相关插值是线性插值。

14.根据权利要求13所述的方法,其中,拍摄两个横截面图像之间的时间间隔是恒定的。

15.根据权利要求13所述的方法,其中,所述对准信息的时间相关插值是横向对准信息的时间相关插值。

16.根据权利要求15所述的方法,其中,深度对准信息不被插值。

17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述第一组的横截面图像的深度对准信息被相同地转移到所述第二组的相应横截面图像。

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