[发明专利]稳定同位素浓缩装置在审

专利信息
申请号: 202180051533.0 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN115968317A 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 樱井勇斗;神边贵史 申请(专利权)人: 大阳日酸株式会社
主分类号: B01D59/04 分类号: B01D59/04
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 崔今花;周艳玲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 稳定 同位素 浓缩 装置
【权利要求书】:

1.一种稳定同位素浓缩装置,通过蒸馏来浓缩稳定同位素,

所述稳定同位素浓缩装置具备多个蒸馏塔级联连接的蒸馏塔组,

所述蒸馏塔组具有:

由一个以上的板式塔构成的板式塔组;和

由一个以上的填充塔构成的填充塔组,

所述填充塔组位于所述板式塔组的二次侧。

2.根据权利要求1所述的稳定同位素浓缩装置,其中,

所述填充塔组中的所述填充塔全部为不规则填充塔。

3.根据权利要求1所述的稳定同位素浓缩装置,其中,

所述填充塔组具有一个以上的规则填充塔和一个以上的不规则填充塔,

一个以上的不规则填充塔位于一个以上的规则填充塔的二次侧。

4.根据权利要求1所述的稳定同位素浓缩装置,其中,

所述填充塔组具有一个以上的规则填充塔和一个以上的不规则填充塔,

一个以上的规则填充塔位于一个以上的不规则填充塔的二次侧。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的稳定同位素浓缩装置,其中,

在所述蒸馏塔组之中,被供给原料的蒸馏塔为板式塔。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的稳定同位素浓缩装置,其中,

关于所述不规则填充塔,并列连接的所述不规则填充塔的个数为20个以下。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的稳定同位素浓缩装置,其中,

所述不规则填充塔的塔径为200mm以下。

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