[发明专利]具有为更好性能而优化的半波片的平视显示系统在审
| 申请号: | 202180049830.1 | 申请日: | 2021-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN116018545A | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
| 发明(设计)人: | 张倩倩;王斌;S·V·霍尔德曼;C·L·埃尔金斯 | 申请(专利权)人: | 伊士曼化工公司 |
| 主分类号: | G02B27/01 | 分类号: | G02B27/01 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 徐红燕;吕传奇 |
| 地址: | 美国田*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有为 更好 性能 优化 半波片 平视 显示 系统 | ||
1.一种夹层,包括:
(a)第一聚合物层;和
(b)包含聚合物材料的半波片(“HWP”)膜,
其中所述HWP膜具有平面和光轴,其中所述光轴相对于由投影到所述HWP膜的平面上的显示光的p偏振方向形成的轴具有角度phi(Φ),
其中Φ为从30°至小于45°的角度、大于45°至55°的角度、从大于135°至150°的角度或125°至小于135°的角度,并且
其中所述HWP膜展现出在550nm下测量的从-200nm至-350nm或从200nm至350nm的面内延迟(“Re[550nm]”)和在550nm下测量的从-350nm至350nm的面外延迟(“Rth[550nm]”)。
2.根据权利要求1所述的夹层,其中所述HWP膜展现出:
(1)Re[550nm]为从-220nm至-325nm或从220nm至325nm,Rth[550nm]为从-275nm至275nm;或者
(2)Re[550nm]为从-250nm至-300nm或从250nm至300nm,Rth[550nm]为从-150nm至150nm。
3.根据权利要求1-2中任一项所述的夹层,其中:
(1)用于HWP膜的Rth[550nm]与Re[550nm]的比为从-0.2至0.2,其中Φ为从42°至小于45°,大于45°至52°,从大于135°至138°,或从128°至小于135°;
(2)用于HWP膜的Rth[550nm]与Re[550nm]的比为从-1.2至-0.8,Φ为从30°至40°或从140°至150°;
(3)用于HWP膜的Rth[550nm]与Re[550nm]的比为从0.8至-0.2,Φ为从36°至44°或从136°至144°;或者
(4)用于HWP膜的Rth[550nm]与Re[550nm]的比为从-2.0至-1.2,Φ为从30°至38°或从142°至150°。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的夹层系统,其中:
(1)用于HWP膜的Re[450nm]与Re[550nm]的比为从0.75至1.10,用于HWP膜的Re[650nm]与Re[550nm]的比为从0.95至1.25;
(2)用于HWP膜的Re[450nm]与Re[550nm]的比为从0.80至1.0,用于HWP膜的Re[650nm]与Re[550nm]的比为从1.0至1.25;或者
(3)用于HWP膜的Re[450nm]与Re[550nm]的比为从0.82至0.90,用于HWP膜的Re[650nm]与Re[550nm]的比为从1.05至1.18。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的夹层,其中所述HWP膜是两个四分之一波片膜堆叠的多层膜。
6.根据权利要求1所述的夹层,其中聚合物材料包括纤维素酯。
7.根据权利要求6所述的夹层,其中纤维素酯是区域选择性取代的纤维素酯。
8.根据权利要求1所述的夹层,其中第一聚合物层包含聚(乙烯醇缩醛),是聚(乙烯醇缩丁醛)。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的夹层,其中所述夹层还包含第二聚合物层,其中所述HWP膜设置在所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间。
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