[发明专利]自动分析装置以及自动分析装置中的维护方法在审
申请号: | 202180032426.3 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN115485566A | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 堀内理绘;七字优 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;G01N35/04 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;范胜杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 分析 装置 以及 中的 维护 方法 | ||
1.一种自动分析装置,其特征在于,具有:
识别装置,其识别附有识别信息的架子;以及
控制部,其根据由所述识别装置识别出的架子的信息,控制收纳于所述架子的容器所保持的液体的分注动作,
所述控制部在认知出搭载有保持清洗液的清洗液容器和保持校准品的校准品容器的一体型架子时,在吸引所述清洗液的清洗液供给工序之后,从搭载于所述一体型架子的所述清洗液容器和所述校准品容器连续地实施吸引所述校准品的校准品供给工序。
2.一种自动分析装置,其特征在于,具有:
识别装置,其识别附有识别信息的架子;以及
控制部,其根据由所述识别装置识别出的架子的信息,控制收纳于所述架子的容器所保持的液体的分注动作,
所述控制部在认知出搭载有保持清洗液的清洗液容器、以及保持包含已知浓度的试样的QC检体的QC检体容器的一体型架子时,在吸引所述清洗液的清洗液供给工序之后,从搭载于所述一体型架子的所述清洗液容器以及所述QC检体容器连续地实施吸引所述QC检体的控制测定工序。
3.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制部在实施所述清洗液供给工序时,使通过之前实施的校准而取得的测定结果无效。
4.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制部在实施所述清洗液供给工序时,使通过之前实施的精度控制测定而取得的测定结果无效。
5.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制部在所述一体型架子未搭载所述校准品容器或所述QC检体容器的情况下,在所述清洗液供给工序之后将所述一体型架子排出到装置外。
6.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述一体型架子构成为能够搭载所述清洗液容器、所述校准品容器以及保持含有已知浓度的试样的QC检体的QC检体容器。
7.根据权利要求2所述的自动分析装置,其特征在于,
仅将清洗对象的分析部中的一部分结构设为控制测定的对象。
8.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制部在认知出所述一体型架子的情况下,将接着所述一体型架子之后投入的架子视为搭载有保持包含已知浓度的试样的QC检体的QC检体容器的控制架来制作分注计划。
9.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
在所述一体型架子能够搭载2个以上所述校准品容器的情况下,
在所述校准品供给工序中,在分注所述校准品中的浓度低的一侧之后,分注所述校准品中的浓度高的一侧,之后再次分注所述校准品中的浓度高的一侧。
10.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
在所述一体型架子能够搭载2个以上所述校准品容器的情况下,
在所述校准品供给工序中,在分注所述校准品中的浓度低的一侧之后,分注所述校准品中的浓度高的一侧,之后分注所述清洗容器中的调节用的清洗液。
11.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
在所述一体型架子能够搭载2个以上所述校准品容器的情况下,
在所述校准品供给工序中,在分注所述校准品中的浓度低的一侧之后,分注所述校准品中的浓度高的一侧。
12.根据权利要求2所述的自动分析装置,其特征在于,
在所述一体型架子能够搭载2个以上所述QC检体容器的情况下,
在所述控制测定工序中,在分注所述QC检体中的浓度低的一侧之后,分注所述QC检体中的浓度高的一侧。
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