[发明专利]GIP/GLP1共激动剂化合物

权利要求书

1.下式的化合物或其药学上可接受的盐：

X₁X₂EGTX₆TSDX₁₀X₁₁X₁₂X₁₃LDX₁₆X₁₇AQX₂₀X₂₁X₂₂IX₂₄X₂₅LIX₂₈GX₃₀

(SEQ ID NO:505)

其中

X₁选自Y和R₁Y；

R₁是N-末端氨基的Ac修饰；

X₂是Aib；

X₆选自αMeF和αMeF(2F)；

X₁₀选自4Pal、Y、αMeF、αMeF(2F)、αMeL、αMeV、Ac4c、Ac5c、Ac6c、Bip、1Nal、2Nal、OMeY、hTyr、Nle、V、4CPhe、ChG、ChA、Bzt、2FA、4TAA、2TA、3TA和KZ₁；

X₁₁选自S、αMeS、Aib、G、Dap、Ac5c和Tle；

X₁₂选自I和KZ₁；

X₁₃选自αMeL和αMeF；

X₁₆是Orn；

X₁₇选自Q、I和KZ₁；

X₂₀选自Aib、Orn、4Pal、αMeF、Ac5c和Ac6c；

X₂₁选自E、KZ₁、G、Orn和4Pal；

X₂₂选自F、2ClPhe、3ClPhe、2FPhe、3FPhe、3,5FPhe、1Nal、2Nal、αMeF(2F)、ChA、Bzt和αMeF；

X₂₄选自D-Glu、E、G和KZ₁；

X₂₅选自Y、αMeY、αMeF和KZ₁；

X₂₈选自E、Orn和KZ₁；

X₃₀选自G、Orn、KZ₁、K(Z₁)R₆、OrnR₂和GR₂；

R₂选自X₃₁、X₃₁SSG (SEQ ID NO:5)、X₃₁SSG-R₃ (SEQ ID NO:6)、X₃₁SSGX₃₅PPPX₃₉ (SEQ IDNO:7)、X₃₁SSGX₃₅PPPX₃₉R₃ (SEQ ID NO:8)、X₃₁SSGX₃₅PPPX₃₉X₄₀ (SEQ ID NO:9)、X₃₁SSGX₃₅PPPX₃₉X₄₀R₃ (SEQ ID NO:10)和C-末端基团的修饰，其中所述修饰是NH₂；

R₆选自PSSG (SEQ ID NO:506)、PSSG-R₃ (SEQ ID NO:507)、PSSGX₃₅PPPX₃₉ (SEQ IDNO:508)、PSSGX₃₅PPPX₃₉R₃ (SEQ ID NO:509)、PSSGX₃₅PPPX₃₉X₄₀ (SEQ ID NO:510)、PSSGX₃₅PPPX₃₉X₄₀R₃ (SEQ ID NO:511)和C-末端基团的修饰，其中所述修饰是NH₂；

X₃₁选自P和KZ₁；

X₃₅选自A和Orn；

X₃₉选自S和Orn；

X₄₀是KZ₁；

R₃是C-末端基团的修饰，其中所述修饰是NH₂；

其中X₁₀、X₁₂、X₁₇、X₂₁、X₂₄、X₂₅、X₂₈、X₃₀、X₃₁和X₄₀的两者且仅两者是KZ₁或K(Z₁)R₆；

Z₁选自R₅和-R₄R₅；

R₄是接头；且

R₅是脂肪酸。