[发明专利]席夫碱低聚物

权利要求书

1.一种式(I)表示的低聚物：

其中：

R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地选自由氢、烷基、环烷基、烷氧基、芳氧基、醚和杂环基组成的组；

R⁹各自独立地选自由烷基、环烷基、芳基、杂环基和醚组成的组；

R²⁸和R²⁹各自独立地选自由氢、烷基和芳基组成的组；

R³³各自独立地选自由烷基、环烷基、芳基、杂环基和键组成的组；

R⁴¹各自独立地是-NH-或键且R⁴⁰各自独立地是-NH-或-NH-NH-；

R⁴²各自独立地是-NH-或键且R⁴³各自独立地是-NH-或-NH-NH-；

Q各自独立地是-CH₂-或氧；

n、m、z和t各自是1至50的整数；

R⁴⁴是羟基、羟基取代的烷基或由以下结构表示：

其中：

R¹是氢或甲硅烷基；

R²和R³独立地选自由氢、烷基和芳基组成的组；

R³¹选自由烷基、环烷基、芳基、杂环基和键组成的组；

R⁵⁰为-NH-或键且R³²为-NH-或-NH-NH-；

R³⁴为-NH-或键且R³⁵为-NH-或-NH-NH-；且

x是1至50的整数；且

R³⁰是氢、甲硅烷基或由以下结构表示：

其中：

R^4'、R^5'、R^6'、R^7'、R^8'、R^10'、R^11'、R^12'、R^13'和R^14’各自独立地选自由氢、烷基、环烷基、烷氧基、芳氧基、醚和杂环基组成的组；

R^9'选自由烷基、环烷基、杂环基和醚组成的组；

R^44'是羟基或羟基取代的烷基；

Q'各自独立地是-CH₂-或氧；且

n'和m'各自是1至50的整数。

2.如权利要求1所述的低聚物，其中，R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地选自由氢和C₁～C₅烷基组成的组。

3.如权利要求1或2所述的低聚物，其中，R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴各自是氢。

4.如权利要求1至3中任一项所述的低聚物，其中，R²⁸和R²⁹各自独立地选自由氢和C₁～C₅烷基组成的组。

5.如权利要求1至4中任一项所述的低聚物，其中，R²⁸和R²⁹各自是氢。