[发明专利]硬涂膜及其制造方法、以及显示装置在审
| 申请号: | 202180016790.0 | 申请日: | 2021-02-19 |
| 公开(公告)号: | CN115175810A | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
| 发明(设计)人: | 田口祐介;松宫俊文;石黑文康;森里香;小松聪子;高丽宽人;宫本正广 | 申请(专利权)人: | 株式会社钟化 |
| 主分类号: | B32B27/08 | 分类号: | B32B27/08 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 硬涂膜 及其 制造 方法 以及 显示装置 | ||
1.一种硬涂膜,其在具有第一主面及第二主面的透明树脂薄膜的第一主面上具备硬涂层,所述硬涂层由硬涂组合物的固化物形成,
所述硬涂层的厚度为透明树脂薄膜的厚度的0.15倍以上,
所述硬涂组合物具有负的固化收缩率,
所述硬涂膜的切出100mm×100mm的尺寸的正方形并测得的卷曲量的绝对值为20mm以下。
2.根据权利要求1所述的硬涂膜,其中,所述硬涂层包含具有脂环式环氧基的聚有机硅氧烷化合物的固化物。
3.根据权利要求2所述的硬涂膜,其中,所述聚有机硅氧烷化合物为硅烷化合物的缩合物,
作为所述硅烷化合物,包含通式(1)所示的化合物:
E-B-R1-Si(OR3)xR23-x…(1)
通式(1)中,E为脂环式环氧基,B为直接键合、醚或酯,R1为碳数2~12的亚烷基,R2为氢原子、或选自由具有碳数1~10的烷基的烷氧基、碳数1~10的烷基、碳数6~25的芳基及碳数7~12的芳烷基组成的组中的1价烃基,x为2或3,R3为氢原子或碳数1~10的烷基。
4.根据权利要求2或3所述的硬涂膜,其中,所述聚有机硅氧烷化合物的重均分子量为500~20000。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的硬涂膜,其中,所述硬涂层的线膨胀率比所述透明树脂薄膜的线膨胀率大。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的硬涂膜,其中,所述透明树脂薄膜包含选自由聚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、环状聚烯烃、丙烯酸系树脂及纤维素系树脂组成的中的1种以上的树脂材料。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的硬涂膜,其中,所述透明树脂薄膜的厚度为10~150μm。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的硬涂膜,其中,所述硬涂层的厚度为2~150μm。
9.一种显示装置,其在图像显示面板的表面具备权利要求1~8中任一项所述的硬涂膜。
10.一种硬涂膜的制造方法,所述硬涂膜在具有第一主面及第二主面的透明树脂薄膜的第一主面上具备硬涂层,所述硬涂层由硬涂组合物的固化物形成,且具有所述透明树脂薄膜的0.15倍以上的厚度,
所述制造方法中,
在所述透明树脂薄膜的第一主面上涂布硬涂组合物后照射活性能量射线,由此形成所述硬涂层,
所述硬涂组合物具有负的固化收缩率,
在加热气氛下进行所述活性能量射线的照射。
11.一种硬涂膜的制造方法,其是制造权利要求1~8中任一项所述的硬涂膜的方法,所述制造方法中,
在透明树脂薄膜的第一主面上涂布硬涂组合物后照射活性能量射线,由此形成所述硬涂层,
在加热气氛下进行所述活性能量射线的照射。
12.根据权利要求10或11所述的硬涂膜的制造方法,其中,所述活性能量射线照射时的温度为45℃~150℃。
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